[发明专利]负型抗蚀剂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、空白掩模、及电子组件与其制造方法

权利要求书

1.一种负型抗蚀剂组合物，含有：

在阳离子部分中含有氮原子的鎓盐化合物(A)；

通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)；

含酸交联性基的化合物(C)；以及

酚性羟基的化合物(D)，其中

所述阳离子部分具备脂肪族氨基，且羰基、磺酰基、氰基或卤素原子的任一者都不直接键结于所述脂肪族氨基所含有的所述氮原子，所述阳离子部分的共轭酸的pKa达到-3以上，

所述含酚性羟基的化合物(D)为含有下述通式(II)所表示的重复单元的树脂：

式中，

R₂表示氢原子、可具有取代基的甲基或卤素原子；

B'表示单键或二价有机基；

Ar'表示芳香环基；

m表示1以上的整数。

2.根据权利要求1所述的负型抗蚀剂组合物，其中所述含酸交联性基的化合物(C)在分子内含有两个以上的羟基甲基或烷氧基甲基。

3.根据权利要求1所述的负型抗蚀剂组合物，其为电子束或极紫外线曝光用。

4.根据权利要求1所述的负型抗蚀剂组合物，其中以所述负型抗蚀剂组合物的总固体成分为基准，所述鎓盐化合物(A)是以0.1质量％～10质量％的量而含有。

5.一种负型抗蚀剂组合物，含有：

在阳离子部分中含有氮原子的鎓盐化合物(A)；

通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)；

含酸交联性基的化合物(C)；以及

酚性羟基的化合物(D)，其中所述阳离子部分具备下述通式(N-I)所表示的部分结构：

式中，

R_A及R_B分别独立地表示氢原子或有机基；

X表示未经取代的直链或分支链状亚烷基、未经取代的亚环烷基、醚键、酯键、酰胺键、氨基甲酸酯键、脲键及将这些的两种以上组合而成的基团；

R_A、R_B及X的至少两个也可相互键结而形成环，

所述含酚性羟基的化合物(D)为含有下述通式(II)所表示的重复单元的树脂：

式中，

R₂表示氢原子、可具有取代基的甲基或卤素原子；

B'表示单键或二价有机基；

Ar'表示芳香环基；

m表示1以上的整数。