[发明专利]具有改进隔离的放大器有效

专利信息
申请号: 201480005407.1 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN104937838B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: S·阿伯德尔海姆;W·J·比德尔曼三世 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H03F1/22 分类号: H03F1/22;H03F3/22;H03F1/52
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 周敏
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 改进 隔离 放大器
【权利要求书】:

1.一种用于放大器的装置,包括:

增益晶体管,其被配置成接收输入信号并提供经放大信号;

耦合在所述增益晶体管与中间节点之间的第一共源共栅晶体管,所述第一共源共栅晶体管具有第一栅极并被配置成基于在所述第一栅极处接收到的偏置电压来启用;

耦合在所述中间节点与输出节点之间的第二共源共栅晶体管,所述第二共源共栅晶体管具有耦合到所述第一栅极的第二栅极,所述第二共源共栅晶体管被配置成基于在所述第二栅极处接收到所述偏置电压来启用并被配置成提供输出信号;以及

分流晶体管,其耦合在所述中间节点与接地之间。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,进一步包括:

第三共源共栅晶体管,其耦合在所述增益晶体管与第二中间节点之间;

第四共源共栅晶体管,其耦合在所述第二中间节点与第二输出节点之间,所述第四共源共栅晶体管被配置成提供第二输出信号;以及

第二分流晶体管,其耦合在所述第二中间节点与接地之间。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一共源共栅晶体管、所述第二共源共栅晶体管和所述分流晶体管包括第一共源共栅电路,所述装置进一步包括:

第二增益晶体管,其被配置成接收所述输入信号并提供第二经放大信号;以及

第二共源共栅电路,其耦合在所述第二增益晶体管与第二输出节点之间,所述第二共源共栅电路被配置成提供第二输出信号。

4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,进一步包括:

耦合在所述增益晶体管与所述第二输出节点之间的第三共源共栅电路、耦合在所述第二增益晶体管与所述输出节点之间的第四共源共栅电路,或其组合。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一共源共栅晶体管、所述第二共源共栅晶体管和所述分流晶体管包括第一共源共栅电路,所述装置进一步包括:

第二增益晶体管,其被配置成接收第二输入信号并提供第二经放大信号;以及

第二共源共栅电路,其耦合在所述第二增益晶体管与第二输出节点之间,所述第二共源共栅电路被配置成提供第二输出信号。

6.如权利要求5所述的装置,其特征在于,进一步包括:

第三共源共栅电路,其耦合在所述增益晶体管与所述第二输出节点之间;以及

第四共源共栅电路,其耦合在所述第二增益晶体管与所述输出节点之间。

7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,进一步包括:

第三增益晶体管,其被配置成接收所述输入信号并提供第三经放大信号;

第五共源共栅电路,其耦合在所述第三增益晶体管与所述输出节点之间;以及

第六共源共栅电路,其耦合在所述第三增益晶体管与所述第二输出节点之间。

8.如权利要求7所述的装置,其特征在于,进一步包括:

第四增益晶体管,其被配置成接收所述第二输入信号并提供第四经放大信号;

第七共源共栅电路,其耦合在所述第四增益晶体管与所述输出节点之间;以及

第八共源共栅电路,其耦合在所述第四增益晶体管与所述第二输出节点之间。

9.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一共源共栅晶体管具有第一长度且所述第二共源共栅晶体管具有第二长度,并且其中所述第一长度和所述第二长度是基于所述第一共源共栅晶体管和所述第二共源共栅晶体管的至少一个目标操作特性来选择的。

10.如权利要求9所述的装置,其特征在于,所述第一长度和所述第二长度是相同的长度。

11.如权利要求1所述的装置,其特征在于,进一步包括:耦合在所述增益晶体管与第二输出节点之间的共源共栅电路,所述共源共栅电路被配置成提供第二输出信号。

12.如权利要求11所述的装置,其特征在于,所述共源共栅电路包括:

耦合在所述增益晶体管与第二中间节点之间的第三共源共栅晶体管;以及

耦合在所述第二中间节点与接地之间的第二分流晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通股份有限公司,未经高通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480005407.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top