[发明专利]变倍光学系统、光学装置和变倍光学系统的制造方法有效

专利信息
申请号: 201480006342.2 申请日: 2014-01-27
公开(公告)号: CN104956248B 公开(公告)日: 2018-04-24
发明(设计)人: 伊藤智希 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B15/20 分类号: G02B15/20;G03B5/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 鲁山,孙志湧
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学系统 光学 装置 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及变倍光学系统、光学装置和变倍光学系统的制造方法。

背景技术

已经提出了一种适合于摄影相机、电子静态摄像机、视频摄像机等等的变倍光学系统(例如专利文献1)。近年来,对适合于摄影相机、电子静态摄像机、视频摄像机等等的变倍光学系统来说,防止会损害光学性能的耀斑和幻像的需求正变得日益严格,因此,对在透镜表面上形成的防反射膜,要求更高性能,为满足该需求,多层膜设计技术和多层膜沉积技术正不断进步(例如见专利文献2)。

现有技术列表

专利文献

专利文献1:日本公开专利公开号:No.2009-180844(A)

专利文献2:日本公开专利公开号:No.2000-356704(A)

发明内容

常见变倍光学系统的问题在于变焦时,像差波动相当大。此外,在常见变倍光学系统的情况下,易于从光学表面产生导致耀斑和幻像的反射光,影响光学性能。

鉴于上文,本发明的目的是提供在变焦时理想地抑制像差波动的变倍光学系统和光学装置,以及变倍光学系统的制造方法。

本发明的另一目的是提供具有高光学性能以进一步减少耀斑和幻像,同时理想地抑制变焦时的像差波动的变倍光学系统和光学装置,以及变倍光学系统的制造方法。

为解决上述问题,根据本发明的第一方面的变倍光学系统按从物体的顺序,由具有正屈光力的第一透镜组、具有负屈光力的第二透镜组、具有正屈光力的第三透镜组、具有负屈光力的第四透镜组,和具有正屈光力的第五透镜组构成,并且在该变倍光学系统中,在变焦时,第一透镜组沿光轴移动,第二透镜组至第五透镜组的至少一部分移动使得包括正交于光轴的分量,以及满足下述条件式:

4.41<f1/(-f2)<5.33

2.15<f1/f3<4.95

其中,f1表示第一透镜组的焦距,f2表示第二透镜组的焦距,以及f3表示第三透镜组的焦距。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

0.18<f3/(-f4)<0.92

其中,f4表示第四透镜组的焦距。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

0.82<(-f4)/f5<1.58

其中,f4表示第四透镜组的焦距,以及f5表示第五透镜组的焦距。

在该变倍光学系统中,优选孔径光阑设置在在与第二透镜组相比,更接近像的位置中。

在该变倍光学系统中,优选孔径光阑设置在第三透镜组和第五透镜组之间的位置中。

在该变倍光学系统中,优选孔径光阑设置在第三透镜组和第四透镜组之间的位置中。

在该变倍光学系统中,优选在聚焦时,第三透镜组的至少一部分沿光轴移动。

在该变倍光学系统中,优选在变焦时,第二透镜组相对于像平面固定。

在该变倍光学系统中,优选第二透镜组的至少一部分移动,使得包括正交于光轴的分量。

在该变倍光学系统中,优选所有透镜表面均是球面。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

0.10<f3/f5<1.06

其中,f5是第五透镜组的焦距。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

0.70<f1/(-f4)<2.55

其中,f4是第四透镜组的焦距。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

0.11<f2/f4<0.62

其中,f4是第四透镜组的焦距。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

9.6<ft/(-f2)<20.0

其中,ft是远摄端状态中,变倍光学系统的焦距。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

3.9<ft/(-f4)<8.8

其中,ft是远摄端状态中,变倍光学系统的焦距,以及f4是第四透镜组的焦距。

在该变倍光学系统中,优选满足下述条件式:

0.8<(-f4)/f5<1.8

其中,f4是第四透镜组的焦距,以及f5是第五透镜组的焦距。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480006342.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top