[发明专利]具有光引出层的柔性气密性薄膜

权利要求书

1.一种受保护的光学装置，其包括,

在基材上提供的装置结构,

在所述装置结构的至少一部分上形成的气密性阻挡层,和

光引出层，其中所述阻挡层包含选自下组的玻璃材料：氟磷酸锡玻璃,钨掺杂的氟磷酸锡玻璃,硫属化物玻璃,亚碲酸盐玻璃,硼酸盐玻璃和磷酸盐玻璃，所述光引出层包括基质材料和散射层,所述散射层选自下组：在所有基质材料中分散的散射颗粒和粗糙化的表面。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置结构包括有机发光二极管。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基材是柔性基材。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基材的厚度是25微米-5mm。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层的厚度是200纳米-10微米。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层的折射率是1.4-3。

7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层包含玻璃化转变温度低于400℃的玻璃材料。

8.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层包含软化点低于500℃的玻璃材料。

9.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层包含玻璃材料，所述玻璃材料包含：

20-75重量％的Sn，

2-20重量％P,

10-36重量％O,

10-36重量％F,和

0-5重量％Nb。

10.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层包含玻璃材料，所述玻璃材料包含：

55-75重量％Sn,

4-14重量％P,

6-24重量％O,

4-22重量％F,和

0.15-15重量％W。

11.如权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述阻挡层上形成所述光引出层。

12.如权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述基材上形成所述光引出层。

13.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光引出层包括至少一部分的阻挡层。

14.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光引出层的厚度是50nm-1mm。

15.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基质材料的折射率是1.4-3。

16.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层的折射率等于所述基质材料的折射率。

17.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述散射颗粒包含选自下组的材料：氧化铝,氧化硅,氧化钛,氧化锆,氧化铌,氧化锌,氧化锡,氮化硅及其组合。

18.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述散射颗粒均匀地分散在整个所述基质材料中。

19.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述散射颗粒占据所述散射层的1-75体积％。

20.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述散射颗粒的平均尺寸是10nm-450nm。

21.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述散射层的平均rms表面粗糙度(Rq)大于50nm。

22.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阻挡层是光学半透明的。