[发明专利]薄膜的成膜方法和成膜装置

权利要求书

1.一种成膜方法，其是在真空中于基板上形成薄膜的成膜方法，其中，对于含有包括第1材料S1和具有高于该S1的蒸汽压P1的蒸汽压P2的第2材料S2的2种以上材料的溶液，在P1以下但不比P1低一个数量级以上的压力的气氛下排出所述溶液，所述溶液到达所述基板后，使该溶液中的溶剂成分蒸发，使残留的溶质成分堆积在所述基板上，形成所述薄膜，所述P1的单位为Pa。

2.如权利要求1所述的成膜方法，其中，其以具有搬运机构的自动化方式进行成膜。

3.一种成膜装置，其是用于在真空中于基板上形成薄膜的成膜装置，其中，所述装置包括：

在内部设置作为成膜对象的基板的真空容器、

对真空容器内进行排气的排气单元、

储藏含有2种以上材料的溶液的储藏容器、

将所述溶液排出至所述基板上的喷嘴，

所述2种以上材料包含第1材料S1和具有的蒸汽压P2高于该S1的蒸汽压P1的第2材料S2，

所述成膜装置构成为：所述真空容器内的压力达到P1以下但不比P1低一个数量级以上的压力时，将所述溶液从喷嘴排出至基板上，所述溶液达到所述基板之后且在成膜后的包括加热干燥的后处理工序之前，使该溶液中的溶剂成分蒸发，使残留的溶质成分堆积在所述基板上，形成所述薄膜，所述P1的单位为Pa。

4.如权利要求3所述的成膜装置，其中，其为具备搬运基板的搬运机构的自动化方式。