[发明专利]基于氧化锆和氧化铈的沉淀的和煅烧的组合物有效
申请号: | 201480007393.7 | 申请日: | 2014-02-05 |
公开(公告)号: | CN105121351B | 公开(公告)日: | 2018-12-14 |
发明(设计)人: | N.奥塔克;佐佐木利裕;徳田潤;E.罗哈特 | 申请(专利权)人: | 罗地亚经营管理公司 |
主分类号: | C01G25/00 | 分类号: | C01G25/00;B01J37/03;B01J23/00;B01J23/06;B01J23/10;B01D53/94 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周李军;林森 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 氧化锆 氧化 沉淀 煅烧 组合 | ||
1.一种组合物,包含氧化锆、氧化铈,以及:
- 按重量计在0.1%与10.0%之间的氧化镧;
- 按重量计在3.0%与20.0%之间的氧化钇和/或氧化钆;以及
- 按重量计在1.0%与15.0%之间的氧化锡;
- 按重量计在0.0%与10.0%之间的氧化镨和/或氧化钕;
其中所述组合物呈现出:
- 在1000°C下煅烧6小时后,至少50 m2/g的BET比表面积;以及
- 在1100°C下煅烧6小时后,至少25 m2/g的BET比表面积。
2.根据权利要求1所述的组合物,其中该BET比表面积在1000°C下煅烧6小时后是至少50 m2/g。
3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中该BET比表面积在1100°C下煅烧6小时后是至少30 m2/g。
4.根据权利要求1或2所述的组合物,其中该氧化铈和氧化锆是到按重量计100%的该组合物的补足物。
5.根据权利要求1或2所述的组合物,其中该Ce/Zr摩尔比是包括在0.1与4.0之间。
6.根据权利要求5所述的组合物,其中该Ce/Zr摩尔比是包括在0.15与2.25之间。
7.根据权利要求5或6所述的组合物,其中该Ce/Zr摩尔比是低于或等于1.00。
8.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述组合物呈现出通过程序升温还原测量的低于或等于500°C的最高还原温度。
9.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述组合物呈现出通过程序升温还原测量的低于或等于400°C的最高还原温度。
10.用于生产根据权利要求1至9中任一项所述的组合物的方法,该方法包括以下步骤:
(a) 在液体介质中形成混合物,该混合物包括锆、铈、锡、镧、钇和/或钆的化合物以及任选地镨和/或钕的化合物;
(b) 使所述混合物与碱性化合物接触,以获得沉淀物;
(c) 在水性介质中加热所述沉淀物;以及
(d) 煅烧该沉淀物。
11.根据权利要求10所述的方法,其中将添加剂添加到在步骤 (c) 中获得的该沉淀物中,该添加剂选自由以下项组成的组:阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、聚乙二醇、羧酸和它们的盐以及羧甲基化的脂肪醇乙氧基化物类型的表面活性剂。
12.用于生产如权利要求1至9中任一项所述的组合物的方法,该方法包括以下步骤:
(a1) 在液体介质中形成混合物,该混合物包含1) 仅锆和铈的化合物,或者 2) 锆和铈的化合物和锡、镧、钇和/或钆的化合物中的一种或多种;
(b1) 在搅拌下,使所述混合物与碱性化合物相接触;
(c1) 在搅拌下,使在前一步骤中得到的该介质与以下各项接触:i) 该组合物的剩余的一种或多种化合物,前提是如果在步骤 (a1) 中不存在所述一种或多种化合物,或者ii)所要求的剩余量的所述一种或多种化合物,在步骤 (c1) 过程中的搅拌能小于在步骤(b1) 过程中使用的搅拌能;
(d1) 在水性介质中加热所述沉淀物;任选地
(e1) 将添加剂添加到在前一步骤中获得的该沉淀物中,该添加剂选自由以下项组成的组:阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、聚乙二醇、羧酸和它们的盐以及羧甲基化的脂肪醇乙氧基化物类型的表面活性剂;以及
(f1) 煅烧所产生的沉淀物。
13.一种催化系统,包含如权利要求1至9中任一项所定义的组合物。
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