[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法和用于其的多元酚衍生物有效
申请号: | 201480008013.1 | 申请日: | 2014-01-28 |
公开(公告)号: | CN104995559B | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 越后雅敏;山川雅子 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;C07C43/20;C07C43/257;C07C69/96;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 用于 多元 衍生物 | ||
1.一种抗蚀剂组合物,其含有下述式(1)或式(2)所示的化合物,
式(1)中,R1为碳数1~30的2n价烃基,式(2)中,R1为单键、或碳数1~30的2n价烃基,该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳数6~30的芳香族基团,其中,所述环式烃基不包括芳香族基团,R2分别独立地为氢原子、卤素原子、碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团所取代的基团,同一萘环或苯环中R2可以彼此相同也可以不同,式(1)中,与不同萘环键合的各自的R2的至少2个为羟基的氢原子被酸解离性基团所取代的基团,式(2)中,R2的至少1个为羟基的氢原子被酸解离性基团所取代的基团,n为1~4的整数,式(1)和式(2)中的重复单元的结构式可以彼此相同也可以不同,式(1)中,m1分别独立地为2~7的整数,式(2)中,X分别独立地为氧原子或硫原子,m2分别独立地为1~6的整数,q分别独立地为0或1。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物,其中,所述式(1)所示的化合物为下述式(1-1)所示的化合物,所述式(2)所示的化合物为式(2-1)所示的化合物,
式(1-1)中,R1为碳数1~30的2n价烃基,式(2-1)中,R1为单键、或碳数1~30的2n价烃基,该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳数6~30的芳香族基团,其中,所述环式烃基不包括芳香族基团,R3分别独立地为氢原子、碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、或碳数2~10的烯基,同一萘环或苯环中R3可以彼此相同也可以不同,R4分别独立地为氢原子或酸解离性基团,式(1-1)中,与不同萘环键合的各自的R4O中的R4的至少2个为酸解离性基团,式(2-1)中,R4的至少1个为酸解离性基团,式(1-1)和式(2-1)中的重复单元的结构式可以彼此相同也可以不同,n为1~4的整数,式(1-1)中,m3分别独立地为2~7的整数,m4分别独立地为0~6的整数,m3+m4分别独立地为2~7的整数,式(2-1)中,m5分别独立地为1~6的整数,m6分别独立地为0~5的整数,m5+m6分别独立地为1~6的整数,q分别独立地为0或1。
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物,其中,所述式(2)所示的化合物为下述式(2-2)所示的化合物,
式(2-2)中,R1为单键、或碳数1~30的2n价烃基,该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳数6~30的芳香族基团,其中,所述环式烃基不包括芳香族基团,R3分别独立地为氢原子、碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、或碳数2~10的烯基,同一萘环或苯环中R3可以彼此相同也可以不同,R4分别独立地为氢原子或酸解离性基团,R4的至少1个为酸解离性基团,式(2-2)中的重复单元的结构式可以彼此相同也可以不同,n为1~4的整数,式(2-2)中,m6分别独立地为0~5的整数,q分别独立地为0或1。
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