[发明专利]用于EUV-光刻中的镜面基材的由TiO2-SiO2玻璃构成的坯料及其制造方法

权利要求书

1.用于EUV-光刻中的镜面基材的由TiO₂-SiO₂玻璃构成的坯料，其特征在于，在920℃至970℃的假想温度T_f平均值下，所述TiO₂-SiO₂玻璃具有其过零温度T_ZC对于假想温度T_f的依赖性，其以微商dT_zc/dT_f表示小于0.3，所述坯料通过下面方法获得，所述方法包括以下方法步骤：

(a)通过含硅和钛的起始物质的火焰水解，产生由具有第一氧化钛浓度的 SiO₂构成的第一多孔性烟灰体，

(b)干燥和烧结所述第一多孔性烟灰体，从而获得具有第一氧化钛浓度的TiO₂-SiO₂玻璃，其中将平均羟基含量调至小于300重量ppm，

(c)在均匀化过程中将所述TiO₂-SiO₂玻璃均匀化，其中在起氧化作用的气氛中将所述TiO₂-SiO₂玻璃加热至大于2000℃的温度，在此软化和变形，从而出现小于5x10¹⁶分子/cm³的平均氢浓度，

(d)将具有小于300重量ppm的平均羟基含量和小于5x10¹⁶分子/cm³的平均氢浓度的所述TiO₂-SiO₂玻璃模制为模制体，并且

(e)将所述模制体退火，从而在920℃至970℃的平均假想温度T_f下，使所述TiO₂-SiO₂玻璃具有其过零温度T_ZC对于假想温度T_f的依赖性，其以微商dT_zc/dT_f表示小于0.3。

2.根据权利要求1的坯料，其特征在于，所述微商dT_zc/dT_f小于0.25。

3.根据权利要求1的坯料，其特征在于，所述TiO₂-SiO₂玻璃具有200至300重量ppm的平均羟基含量。

4.根据前述权利要求1-3任一项的坯料，其特征在于，所述TiO₂-SiO₂玻璃具有小于1x10¹⁶分子/cm³的平均氢浓度。

5.根据前述权利要求1-3任一项的坯料，其特征在于，其由上侧面和下侧面界定，并且所述TiO₂-SiO₂玻璃在上侧面和下侧面之间具有不均匀的氧化钛浓度分布。

6.根据权利要求5的坯料，其特征在于，其形成为复合体，该复合体包含由具有第一氧化钛浓度的TiO₂-SiO₂玻璃构成的第一模制体和由具有第二氧化钛浓度的TiO₂-SiO₂玻璃构成的第二模制体，所述第二模制体与第一模制体接合。

7.根据权利要求6的坯料，其特征在于，所述第一模制体具有第一平均假想温度，并且所述第二模制体具有第二平均假想温度，其中第一和第二平均假想温度彼此不相同。

8.根据权利要求6或7的坯料，其特征在于，所述第一或第二模制体形成为具有最大60mm厚度的板状。