[发明专利]处于高能量的X射线相衬成像和CT的大视场光栅干涉仪在审

专利信息
申请号: 201480008497.X 申请日: 2014-04-09
公开(公告)号: CN105142524A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: D.斯图特曼;M.芬肯萨尔 申请(专利权)人: 约翰斯·霍普金斯大学
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/03
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 王岳;张懿
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 处于 高能量 射线 成像 ct 视场 光栅 干涉仪
【权利要求书】:

1.一种可操作为调节高能量X射线系统中的入射X射线的干涉仪设备,其包括:

衬底;

以扇状布置在衬底上的多个平铺的微周期性光栅,其中,光栅包括吸收条并且吸收条沿着入射X射线的方向以掠射角被倾斜,并且其中,吸收条在等于或小于它们的光束准直或渐晕宽度的宽度上与入射X射线平行地对准。

2.权利要求1所述的干涉仪设备,其中,该设备被配置成供大视场(FOV)干涉测量系统使用。

3.权利要求1所述的干涉仪设备,其中,衬底包括单一衬底。

4.权利要求1所述的干涉仪,其中,光栅以扇状被平铺在水平方向上并且被堆叠在垂直方向上以构成大的水平和垂直视场(FOV)微分相衬断层摄影(DPC-CT)系统。

5.权利要求1所述的干涉仪,其中,光栅的吸收条沿着入射X射线的传播方向以大约5°至大约30°的角度倾斜,并且在大约5°和15°之间的角度上在它们的衬底上成扇形展开,以构成用于50-150kVp能量的大的FOVX射线干涉仪。

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