[发明专利]用于前级管线等离子体减量系统的气体套管

权利要求书

1.一种用于在基板处理系统的前级管线中处理废气的设备，所述设备包括：

气体套管发生器，所述气体套管发生器包括主体，所述主体具有设置成穿过所述主体的中心开口；

气室，所述气室设置在所述主体内并且围绕所述中心开口；

入口，所述入口耦接至所述气室；和

环状体，所述环状体在第一端耦接至所述气室并且在与所述第一端相对的第二端处形成环形出口，其中所述环形出口与所述中心开口同心并且通向所述中心开口。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述气体套管发生器被设置成与前级管线等离子体减量系统上游的前级管线串联。

3.如权利要求1所述的设备，进一步包括气源，所述气源耦接至所述气体套管发生器的所述入口。

4.如权利要求3所述的设备，其中所述气源提供水蒸汽或惰性气体。

5.如权利要求1至4中任一项所述的设备，其中所述气体套管发生器的所述主体进一步包括第一半部和第二半部，其中所述气室设置在所述第一半部与所述第二半部之间。

6.如权利要求5所述的设备，其中所述入口设置在所述第一半部中。

7.如权利要求5所述的设备，其中所述第一半部进一步包括凸缘，所述凸缘设置为邻近于所述中心开口并且沿着所述中心开口从所述第一半部轴向地延伸出并至少部分地与所述第二半部重叠，且其中所述环状体界定于所述凸缘与所述第二半部之间。

8.如权利要求5所述的设备，其中所述主体进一步包括：第一多个孔和第二多个通孔，所述第一多个孔用来将所述第一半部和所述第二半部耦接在一起，所述第二多个通孔设置成完全穿过所述主体。

9.一种基板处理系统，所述基板处理系统包括：

处理腔室；

前级管线，所述前级管线耦接至所述处理腔室以允许废气从所述处理腔室流出；

前级管线等离子体减量系统，所述前级管线等离子体减量系统耦接至所述前级管线以减少流过所述前级管线的废气；

气源；和

气体套管发生器，所述气体套管发生器设置在所述前级管线等离子体减量系统上游的所述前级管线中，并且所述气体套管发生器耦接至所述气源以在所述废气与所述前级管线的内壁之间产生由所述气源提供的气体的套管，其中所述气体套管发生器包括：

主体，所述主体具有设置成穿过所述主体的中心开口；

气室，所述气室设置在所述主体内并且围绕所述中心开口；

入口，所述入口耦接至所述气室；和

环状体，所述环状体在第一端耦接至所述气室并且在与所述第一端相对的第二端处形成环形出口，其中所述环形出口与所述中心开口同心并且通向所述中心开口。

10.如权利要求9所述的基板处理系统，其中所述气源在所述气体套管发生器的上游位置处额外地耦接至所述前级管线。

11.如权利要求9所述的基板处理系统，其中所述气源提供水蒸汽或惰性气体。

12.如权利要求9所述的基板处理系统，其中所述气体套管发生器的所述主体进一步包括第一半部和第二半部，其中所述气室设置在所述第一半部与所述第二半部之间。

13.如权利要求12所述的基板处理系统，其中所述主体的所述第一半部进一步包括凸缘，所述凸缘设置为邻近于所述中心开口并且沿着所述中心开口从所述第一半部轴向地延伸出并至少部分地与所述主体的所述第二半部重叠，且其中所述环状体界定于所述凸缘与所述第二半部之间。

14.如权利要求12所述的基板处理系统，其中所述主体进一步包括：第一多个孔和第二多个通孔，所述第一多个孔用来将所述第一半部和所述第二半部耦接在一起，所述第二多个通孔设置成完全穿过所述主体。