[发明专利]用于基板边缘清洁的方法和装置

权利要求书

1.一种基板清洁设备，所述基板清洁设备包括：

基板支撑件，所述基板支撑件具有支撑表面，以支撑待清洁的基板，其中所述基板支撑件可围绕垂直于所述支撑表面的中心轴旋转；

第一喷嘴，当所述基板支撑件的所述支撑表面支撑所述基板时，所述第一喷嘴将第一清洁气体提供至一区域，所述区域对应于所述基板的远离所述中心轴的径向边缘的位置，其中当所述支撑表面支撑所述基板时，所述第一喷嘴被定位面对所述基板的所述径向边缘；

第一环形主体，所述第一环形主体设置于所述基板支撑件的所述支撑表面的相对面，且与所述基板支撑件的所述支撑表面间隔开缝隙，所述第一环形主体具有中央开口，所述中央开口由所述第一环形主体的内壁界定，所述中央开口自远离所述支撑表面的所述第一环形主体的第一侧面延伸至邻近所述支撑表面的所述第一环形主体的第二侧面，其中邻近所述支撑表面的所述中央开口的尺寸经设置以暴露所述支撑表面的主要部分，且其中所述内壁经塑形以在径向向外的方向上于所述第一环形主体与所述支撑表面之间提供减少尺寸的所述缝隙；和

第一气体入口，所述第一气体入口将第一气体提供至所述第一环形主体的所述中央开口。

2.如权利要求1所述的设备，所述设备进一步包括具有第一空间的处理腔室，其中所述基板支撑件设置于所述第一空间的内部。

3.如权利要求1所述的设备，其中至少以下之一：

所述基板支撑件在所述基板的中心处将所述基板支撑在第二侧面上；或

所述基板支撑件在所述基板的所述边缘上支撑所述基板。

4.如权利要求1至3中任一项所述的设备，其中所述基板支撑件经配置以旋转所述基板，同时将所述基板的边缘暴露于所述第一喷嘴。

5.如权利要求1至3中任一项所述的设备，其中所述第一清洁气体包含10％至50％的固态二氧化碳，及90％至50％的气态二氧化碳。

6.如权利要求1至3中任一项所述的设备，所述设备进一步包括第二喷嘴，在所述基板设置于所述基板支撑件的所述支撑表面上时，所述第二喷嘴将第二清洁气体提供至所述区域，所述区域对应于所述基板的所述边缘的所述位置。

7.如权利要求6所述的设备，其中所述第二清洁气体包含1％至20％的固态二氧化碳和99％至80％的气态二氧化碳。

8.如权利要求1至3中任一项所述的设备，其中所述第一喷嘴以与一接线成-175度至175度的角度面对所述基板的所述边缘，所述接线自所述基板的中心水平向外延伸。

9.如权利要求1至3中任一项所述的设备，其中至少以下之一：

所述缝隙在2mm至10mm之间；或

所述缝隙延伸至所述基板的第一侧面的外边缘。

10.如权利要求1至3中任一项所述的设备，所述设备进一步包括：

第二环形主体，所述第二环形主体设置于所述基板的第二侧面的相对面，且与所述基板的所述第二侧面间隔开第二缝隙，所述第二环形主体具有中央开口，所述中央开口由所述第二环形主体的内壁界定，所述中央开口自远离所述基板的所述第二侧面的所述第二环形主体的第一侧面延伸至邻近所述基板的所述第二侧面的所述第二环形主体的第二侧面，其中邻近所述基板的所述第二侧面的所述第二环形主体的所述中央开口的尺寸经设置以暴露所述基板的所述第二侧面的主要部分，且其中所述第二环形主体的所述内壁经塑形以在径向向外的方向上于所述第二环形主体与所述基板的所述第二侧面之间提供一减少尺寸的所述第二缝隙；和

第二气体入口，所述第二气体入口将第二气体提供至所述第二环形主体的所述中央开口。