[发明专利]抗蚀剂图案形成方法、抗蚀剂潜像形成装置、抗蚀剂图案形成装置和抗蚀剂材料

权利要求书

1.一种抗蚀剂图案形成方法，含有：

抗蚀剂层形成步骤，在基板上形成包含抗蚀剂组合物的抗蚀剂层，所述抗蚀剂组合物含有增感剂前驱体；

活性能量束照射步骤，照射活性能量束，由所述增感剂前驱体生成增感剂；

图案潜像形成步骤，通过潜像形成能量束的照射，所述增感剂反复进行在激发态与激发前状态之间的迁移，从而在所述抗蚀剂层上形成图案潜像；以及

显影步骤，对形成了所述图案潜像的抗蚀剂层进行显影。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

不照射所述活性能量束的情况下，即使照射所述潜像形成能量束，也不生成所述增感剂。

3.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述抗蚀剂层形成步骤中，所述增感剂前驱体含有从双(4-甲氧基苯基)甲醇、二甲氧基二苯基甲醇衍生物和三甲氧基二苯基甲醇组成的组中选择的至少一个。

4.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案潜像形成步骤中，所述潜像形成能量束的波长比所述活性能量束的波长长。

5.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述活性能量束照射步骤中，所述活性能量束是电磁波、电子束或者离子束，所述电磁波包含紫外线和X射线，

所述图案潜像形成步骤中，所述潜像形成能量束是可见光或者紫外光。

6.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述活性能量束照射步骤中，根据所述活性能量束的照射，生成所述增感剂也生成酸。

7.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案潜像形成步骤中，根据所述潜像形成能量束的照射，生成酸。

8.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案潜像形成步骤中，根据所述潜像形成能量束的照射，生成酸也生成所述增感剂。

9.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案潜像形成步骤中，根据所述潜像形成能量束的照射，生成酸而不生成所述增感剂。

10.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述活性能量束照射步骤含有在所述抗蚀剂层上生成活性种的步骤，其中所述活性种包含中间体、自由基和离子中的任一种，

所述抗蚀剂图案形成方法还含有对在所述抗蚀剂层上生成的活性种的衰减进行抑制的衰减抑制步骤。

11.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案潜像形成步骤中，在所述抗蚀剂层上生成了活性种的状态下，根据所述潜像形成能量束的照射，在所述抗蚀剂层上形成图案潜像，其中所述活性种包含中间体、自由基和离子中的任一种。

12.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述活性能量束照射步骤中，所述增感剂前驱体作为产酸剂发挥作用。

13.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述增感剂前驱体作为产酸剂发挥作用，

根据所述活性能量束对所述抗蚀剂组合物的照射，生成电子，

所述增感剂前驱体与所述生成的电子进行反应，生成所述增感剂和酸。

14.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述抗蚀剂组合物还含有产酸剂，

根据所述活性能量束对所述抗蚀剂组合物的照射，生成电子，

通过所述产酸剂与所述生成的电子进行的反应，生成自由基，

通过所述生成的自由基与所述增感剂前驱体进行的反应，生成所述增感剂。

15.根据权利要求1或者权利要求2所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述抗蚀剂组合物还含有产酸剂，

根据所述活性能量束对所述抗蚀剂组合物的照射，由所述产酸剂生成酸，

所述生成的酸与所述增感剂前驱体进行反应，生成所述增感剂。