[发明专利]水处理装置和使用该水处理装置的水处理方法在审
申请号: | 201480009967.4 | 申请日: | 2014-11-12 |
公开(公告)号: | CN105793198A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 柏原秀树 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00;B01D24/02;B01D24/46;B01D29/62;B01J20/26;C02F1/28 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾红霞;王慧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水处理 装置 使用 方法 | ||
1.一种水处理装置,所述水处理装置包括沿大致竖直方向放置 的筒状的本体,所述水处理装置通过利用设置在所述本体中的多个处 理层对从上方供应的待处理液进行净化,并且从下方回收处理过的液 体,所述水处理装置包括:
从上游侧起依次为:第一处理层,其容纳有多个第一颗粒;第 一隔板,其用于防止所述第一颗粒掉落;第二处理层,其容纳有多个 第二颗粒,所述第二颗粒的平均直径小于所述第一颗粒的平均直径; 以及第二隔板,其用于防止所述第二颗粒掉落;
其中,在稳定状态下,在所述第二处理层的上方设置有空间部。
2.根据权利要求1所述的水处理装置,还包括:
第三处理层,其设置在所述第二隔板的下方并且容纳有吸附油 的吸附剂。
3.根据权利要求1或2所述的水处理装置,其中,
所述第一颗粒的平均直径为100μm以上且500μm以下,并且所 述第二颗粒的平均直径为10μm以上且200μm以下。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的水处理装置,其中,
所述空间部在稳定状态下的平均高度为所述多个第二颗粒的堆 积层的平均厚度的一倍以上。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的水处理装置,还包括:
反冲洗水供应部,其用于从所述本体的下方供应反冲洗水;以 及反冲洗水回收部,其用于从所述本体的上方回收所述反冲洗水。
6.根据权利要求5所述的水处理装置,还包括:
喷射水流产生部,其用于向所述空间部喷射所述反冲洗水。
7.根据权利要求1至6中的任一项所述的水处理装置,其中,
所述第一颗粒和所述第二颗粒主要由高分子化合物构成。
8.根据权利要求2所述的水处理装置,其中,
所述吸附剂为非织造物,并且所述非织造物的纤维的平均直径 为1μm以下。
9.根据权利要求1至8中的任一项所述的水处理装置,其中,
所述待处理液包含油和悬浮物,并且所述油和所述悬浮物从所 述待处理液分离。
10.一种水处理方法,包括:
向根据权利要求1至9中的任一项所述的水处理装置供应待处 理液的步骤;以及
回收处理过的液体的步骤。
11.根据权利要求10所述的水处理方法,其中,
所述待处理液的供应量为100m3/m2·天以上。
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