[发明专利]黑矩阵基板

权利要求书

1.一种黑矩阵基板，依次具有透明基板、遮光层A和遮光层B，遮光层A的每单位厚度的光密度比遮光层B的每单位厚度的光密度低，遮光层A含有遮光材料和折射率1.4～1.8的微粒，

折射率1.4～1.8的微粒是选自氧化铝、氧化硅、硫酸钡、硫酸钙、碳酸钡、碳酸钙、碳酸镁、碳酸锶以及偏硅酸钠中的1种以上的微粒。

2.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，折射率1.4～1.8的微粒的通过依照JIS P8148(2001)的方法测定得到的白度为30％以上。

3.根据权利要求1或2所述的黑矩阵基板，其特征在于，透明基板由聚酰亚胺树脂形成。

4.一种滤色器基板，权利要求1～3中任一项所述的黑矩阵基板的遮光层A和遮光层B具有图案形状，在不存在图案的部分存在着色了的像素。

5.一种发光器件，具有权利要求4所述的滤色器基板和发光元件。

6.根据权利要求5所述的发光器件，发光元件为有机EL元件。

7.一种液晶显示装置，依次具有权利要求4所述的滤色器基板、液晶化合物和对置基板。

8.权利要求1～3中任一项所述的黑矩阵基板的制造方法，具有下述工序：

在透明基板的上方形成含有遮光材料、和折射率1.4～1.8的微粒的组合物的层的工序；

在该组合物的层的上方形成含有遮光材料的感光性树脂组合物的层的工序；

进行图案曝光，通过显影液或者溶剂对上述2种层进行图案加工的工序。

9.一种滤色器的制造方法，具有通过权利要求8所述的方法制造了黑矩阵基板后，在不存在图案的部分设置像素的工序。