[发明专利]一种真空镀膜设备以及真空镀膜的方法

说明书

一种真空镀膜设备以及真空镀膜的方法，该真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及导气柱，支架设置于气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，支架包括支架柱，导气柱呈中空状且在导气柱的侧壁上设置有多个第一通气孔，支架柱呈中空状且支架柱的侧壁上设置有多个第二通气孔，导气柱从所述支架柱的一端插入支架柱，支架柱嵌套设置于导气柱外侧且能够绕所述导气柱转动，引入的高分子材料裂解气体经第一通气孔和第二通气孔均匀扩散并沉积于待镀膜工件上。通过上述方式，能够有效提高真空纳米镀膜的效率以及镀膜的效果。

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜设备以及真空镀膜的方法。

背景技术

将高分子材料裂解成纳米分子后在真空环境内均匀无间隙附着在产品表面形成纳米保护膜，称之为真空气相沉积纳米镀膜。这种工艺的纳米镀膜与传统镀膜或者喷油、喷漆具有以下特性：1、防水防潮无细孔，密封性好；2、镀膜耐酸碱、绝缘等级高、防静电产生；3、镀膜表面平顺，防污脏物粘附，摩擦力小，易擦洗；4、外观色泽，可根据需求调整，从高透明到其它颜色。5、镀膜厚度是从0.1微米到50微米以上皆可；6、镀膜附着力好，无内内应力，气泡孔，镀膜适应环境温度±200℃，不脱落不起皱。

纳米镀膜时，原料在材料室内经过150℃的汽化形成气态后进入到高温650℃左右的裂解炉，分解成纳米级分子。进入到常温的镀膜室，在真空状态下以气相沉积防水形成薄膜，均匀覆盖产品表面针孔及间隙。它与金属喷镀及喷油漆不同之处在于，只要产品表面与空气接触都能被真空气相沉积纳米镀膜，均匀覆盖，形成无针孔、致密均匀、高透明的薄膜。

由于纳米镀膜时，需镀膜的产品表面都要与空气接触，因此，如何对镀膜设备进行改进以适应不同产品镀膜是一个有待解决的技术问题。

发明内容

本发明提供一种真空镀膜设备以及真空镀膜的方法，能够对带镀膜工件实行批量真空纳米镀膜，提高待镀膜工件真空纳米镀膜的效率以及镀膜效果。

为解决上述技术问题，本发明提供的一种技术方案是：提供一种真空镀膜设备，所述真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及导气柱，所述支架设置于所述气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，所述支架包括支架柱，所述导气柱呈中空状且在所述导气柱的侧壁上设置有多个第一通气孔，所述支架柱呈中空状且所述支架柱的侧壁上设置有多个第二通气孔，所述导气柱从所述支架柱的一端插入所述支架柱，所述支架柱嵌套设置于所述导气柱外侧且能够绕所述导气柱转动，引入的高分子材料裂解气体经所述第一通气孔和所述第二通气孔均匀扩散并沉积于所述待镀膜工件上。

其中，所述第一通气孔为长度方向沿所述导气柱的轴向方向设置的条形孔。

其中，沿所述导气柱的轴向方向相邻设置的所述第一通气孔沿所述导气柱的轴向方向彼此错开。

其中，所述第二通气孔为圆形孔，所述第一通气孔的长度大于所述第二通气孔的直径。

其中，所述支架进一步包括密封设置于所述支架柱的另一端的顶盖。

其中，所述真空镀膜设备进一步包括设置于所述气相沉积室侧壁的入口以及设置于所述气相沉积室内与所述入口正对着的降温分流挡板，所述入口用于引入高分子材料裂解气体，所述高分子材料裂解气体经所述降温分流挡板冷却后扩散于所述气相沉积室内。

其中，所述真空镀膜设备进一步包括磁性转动组件，所述磁性转动组件包括设置于所述气相沉积室外侧的第一旋转磁体以及设置于所述气相沉积室内侧的第二旋转磁体，所述第一旋转磁体与所述第二旋转磁体磁性耦合，所述第一旋转磁体在旋转驱动马达带动下转动，并能够带动所述第二旋转磁体转动，进而带动所述支架柱能够绕所述导气柱转动。

其中，所述导气柱贯穿所述气相沉积室设置，所述第一旋转磁体和所述第二旋转磁体分别转动支撑于所述导气柱上且能够绕所述导气柱进行转动。