[发明专利]用于降低挠性玻璃基材的双轴弯曲和/或翘曲的方法和结构有效

专利信息
申请号: 201480010960.4 申请日: 2014-02-24
公开(公告)号: CN105228823B 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: J·G·布雷彻尔;S·M·加纳;K·E·格伯;K·古帕拉克芮西曼 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 徐鑫;项丹
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 降低 玻璃 基材 弯曲 方法 结构
【说明书】:

挠性玻璃结构包括厚度不大于约0.3mm的挠性玻璃基材。将加强层与挠性玻璃基材的表面相连接。加强层包括至少一个沿着挠性玻璃基材的表面以行程方向延伸的加强元件,对所述加强元件的杨氏模量进行选择,从而在基本平行于加强元件的行程方向的方向上,为挠性玻璃基材提供优选的弯曲轴。

本申请根据35U.S.C.§119,要求2013年2月27日提交的美国临时申请第61/770015号的优先权,本文以该申请为基础并将其全文通过引用结合于此。

技术领域

发明涉及挠性玻璃基材,更具体地,涉及降低挠性玻璃基材的双轴弯曲和翘曲的方法。

背景技术

对于各种应用,例如触摸传感器、滤色器和光伏(PV)覆盖,对于挠性玻璃基材的兴趣正在不断增加。虽然当位于封装器件中的时候,挠性玻璃基材可能不会与环境发生直接接触,但是挠性玻璃基材应该能够耐受各种角度的冲击和跌落事件。对于用作PV模块和其他电子件的覆盖,挠性玻璃基材同样应该能够经受来自封装器件外朝向表面的各种冲击。对于这些应用而言,实现机械可靠性包括同时使得挠性玻璃基材中的缺陷最小化以及控制应力。可以通过成形之后的加工技术减少挠性玻璃基材中的缺陷,以降低对于挠性玻璃基材的表面或边缘的接触损坏。可通过封装设计和涂层选择来控制最终器件封装之后的挠性玻璃基材中存在的应力。需要各种用于控制挠性玻璃基材中的应力的其他方法。

发明内容

改进裸挠性玻璃的机械可靠性的一种技术是控制挠性玻璃基材的弯曲。取决于机械强度要求和预期弯曲应力以及终端应用的方向,根据本文所揭示的概念,可以将挠性玻璃结构设计成符合各种形状和机械要求。具体来说,可以将挠性玻璃结构成形为具有由于受控的弯曲导致的可预知的应力式样。

在以下的详细描述中给出了本发明的附加特征和优点,其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言由所述内容而容易理解,或按文字描述和附图实施本发明而被认识。应理解,前面的一般性描述和以下的详细描述都只是本发明的示例,用来提供理解要求保护的本发明的性质和特性的总体评述或框架。

所含附图用于进一步理解本发明的原理,附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图图示说明了本发明的一个或多个实施方式,并与说明书一起用来说明例如本发明的原理和操作。应理解,在本说明书和附图中揭示的本发明的各种特征可以以任意和所有的组合使用。作为非限制性例子,本发明的各种特征可相互组合如以下方面。

根据第一个方面,提供了一种挠性玻璃结构,该挠性玻璃结构包括:

挠性玻璃基材,其厚度不超过约0.3mm;以及

与挠性玻璃基材的表面相连接的加强层,所述加强层包括至少一个沿着挠性玻璃基材的表面以行程方向(running direction)延伸的加强元件,对所述加强元件的杨氏模量进行选择,从而在基本平行于加强元件的行程方向的方向上,为挠性玻璃基材提供优选的弯曲轴。

根据第二个方面,提供了第一个方面的方法,其中,所述加强层还包括涂层材料。

根据第三个方面,提供了第二个方面的方法,其中,所述加强元件被封装在涂层材料中。

根据第四个方面,提供了第二或第三个方面的方法,其中,所述加强元件的杨氏模量大于所述涂层材料的杨氏模量。

根据第五个方面,提供了第四个方面的方法,其中,所述加强元件的杨氏模量大于约40GPa,所述涂层材料的杨氏模量小于约20GPa。

根据第六个方面,提供了第一至第五个方面的方法,其中,所述加强元件包括剪切增厚材料。

根据第七个方面,提供了第一至第六个方面的方法,其中,所述加强元件包括玻璃纤维或金属线。

根据第八个方面,提供了第一至第七个方面的方法,其中,所述表面位于挠性玻璃基材的侧边缘。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于康宁股份有限公司,未经康宁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480010960.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top