[发明专利]图案形成方法、树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法以及化合物

权利要求书

1.一种图案形成方法，包括：

(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由以下式(I-1)表示的化合物A、不同于所述化合物A且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物B、以及不与由所述化合物A生成的酸反应且能够通过所述化合物B生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)；

(ii)使所述膜曝光的步骤；以及

(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影从而形成负型图案的步骤：

其中

R₁及R₁'各独立地表示单价有机基团，

Y表示-SO₂-或-CO-，且

X⁺表示反荷阳离子。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，

其中所述化合物A是由以下式(I-2a)或式(I-2b)表示：

其中

各R₂独立地表示氢原子、烷基、环烷基或烷氧基，

R₃表示氢原子或单价有机基团，

两个R₂及R₃中的两个或更多个可彼此组合从而形成环，且

R₁、R₁'以及X⁺具有与式(I-1)中的R₁、R₁'以及X⁺相同的含义。

3.根据权利要求2所述的图案形成方法，

其中所述化合物A是由以下式(I-3a)或式(I-3b)表示：

其中

R₄及R₅各独立地表示氟原子、羟基、烷基或环烷基，

由R₄及R₅表示的烷基或环烷基中所含的CH₂可经-O-、-C(O)-、-S(O)_n-、-S(O)₂-NR₆-、-C(O)-NR₆-、-OC(O)-NR₆-或其组合置换，

R₆表示氢原子或单价有机基团，n表示0至2的整数，

两个R₂及R₄中的两个或更多个可彼此组合从而形成环，且

R₂及X⁺具有与式(I-2a)中的R₂及X⁺相同的含义。

4.根据权利要求1至3中任一项的图案形成方法，

其中所述树脂(P)含有由以下式(II)表示的重复单元：

其中

Ra表示氢原子或烷基，

各Rb独立地表示烷基或环烷基，且两个Rb可彼此组合从而形成环。

5.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，含有：

由式(I-2a)或式(I-2b)表示的化合物A；

不同于所述化合物A且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物B；以及

不与由所述化合物A生成的酸反应且能够通过所述化合物B生成的酸作用而分解从而产生极性基团的树脂(P)：

其中

R₁及R₁'各独立地表示单价有机基团，且X⁺表示反荷阳离子，

各R₂独立地表示氢原子、烷基、环烷基或烷氧基，

R₃表示氢原子或单价有机基团，

两个R₂及R₃中的两个或更多个可彼此组合从而形成环。