[发明专利]单核钌络合物和使用了该单核钌络合物的有机合成反应有效

专利信息
申请号: 201480011637.9 申请日: 2014-02-26
公开(公告)号: CN105026409B 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 永岛英夫;砂田祐辅;堤大典;桥本彻;作田晃司 申请(专利权)人: 国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
主分类号: C07F19/00 分类号: C07F19/00;B01J31/22;C07C5/03;C07C9/16;C07C13/10;C07C13/18;C07C15/073;C07C15/18;C07C209/50;C07C211/27;C07C211/29;C07C213/00;C07C217/58
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杜丽利
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 单核 络合物 使用 有机合成 反应
【说明书】:

式(1)所示的具有钌‑硅键的单核钌络合物对于氢化硅烷化反应、氢化反应、羰基化合物的还原反应的这三种反应能够发挥优异的催化剂活性。(式中,R1~R6相互独立地表示氢原子、可被X取代的、烷基、芳基、芳烷基等,或者R1~R3的任一个与R4~R6的任一个的至少1组表示在一起的桥连取代基,X表示卤素原子、有机氧基等,L表示CO和膦以外的二电子配体,存在多个L的情况下,它们可彼此相同,也可不同,L为2个的情况下,它们可相互结合,n和m相互独立地表示1~3的整数,n+m满足3或4。)。

技术领域

本发明涉及具有钌-硅键的单核钌络合物,更详细地说,涉及对于氢化硅烷化反应、氢化反应、羰基化合物的还原反应的这三种反应具有催化剂活性的单核钌络合物。

背景技术

对于具有碳-碳双键、碳-碳三键的化合物使Si-H官能性化合物进行加成反应的氢化硅烷化反应是合成有机硅化合物的有用的手段,在工业上也是重要的合成反应。

作为该氢化硅烷化反应的催化剂,已知Pt、Pd、Rh化合物,其中最多使用的催化剂是以Speier催化剂、Karstedt催化剂为代表的Pt化合物。

作为使Pt化合物作为催化剂的反应的问题,可列举在末端烯烃加成Si-H官能性化合物时发生烯烃内部重排的副反应。在该体系中对于内部烯烃不显示加成反应性,未反应烯烃在加成生成物中残留,因此为了使反应完成,必须估计副反应中残留的部分,预先使用过量的烯烃。

此外,因烯烃的种类,也存在α加成物和β加成物的选择性差的问题。

最大的问题是作为中心金属的Pt、Pd、Rh都是价格极高的贵金属元素,希望能够以更低价格使用的金属化合物催化剂,因此进行大量的研究。特别地,Ru虽然属于贵金属,但为能够以较低的价格得到的金属,因此要求作为Pt、Pd、Rh的替代的功能。

对于该Ru化合物,报道了具有η6-芳烃基并且在作为中心金属的Ru结合有机聚硅氧烷或者配位乙烯基硅氧烷的化合物(专利文献1)。该化合物虽然显示出对甲基氢聚硅氧烷与甲基乙烯基聚硅氧烷的加成反应有效,但对于120℃的反应,收率低,为了得到高收率,必须在160℃的高温下反应。

此外,该专利文献1中作为现有文献,引用了有关Ru催化剂的大量专利(专利文献2~6),但从反应性、选择性、经济性的观点出发,不能说都优于贵金属元素系催化剂。

另一方面,对于烯烃的氢化反应,例如,有使用了非专利文献1中所示的3核钌络合物的反应,但从反应温度、收率等观点出发,希望进一步改进。

作为将羰基化合物还原的方法,有在铝的氢化合物、硼的氢化合物、贵金属催化剂存在下使用氢的方法。羰基化合物中,对于酮、醛,已知能在温和的条件下使反应进行的、稳定、容易处理的氢化物反应剂、氢化用贵金属催化剂,对于酯、酰胺这样的羧酸衍生物的还原,主要采用使用氢化铝锂、硼烷等强力的还原剂的方法(非专利文献2)。但是,这些还原剂由于是着火性、禁水性物质,因此处理上存在困难。此外,将反应后的铝、或者硼化合物从目标物中除去时也必须对处理注意。此外,对于羧酸衍生物的还原需要高温高压的氢。

报道了大量使用在空气中稳定并且处理容易的氢硅烷化合物、甲基氢聚硅氧烷作为还原剂的方法,但在反应中需要添加强酸或路易斯酸,需要高价的贵金属催化剂。最近,报道了以价格较低的钌作为催化剂的羰基化合物的还原反应,其中的一部分也给出了对于在以往方法中需要严格的条件的酰胺的还原反应适用的例子。作为具体的钌催化剂的例子,可列举非专利文献3~6,希望显示更高转化率的高活性催化剂。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:专利第5032561号公报

专利文献2:美国专利申请公开第2004/0092759号说明书

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