[发明专利]低能量研磨以制备片状粉末

权利要求书

1.一种增加钽粒子的表面积的方法，包括：

将钽粉末和介质装入研磨装置，其中

所述介质的平均直径至少为0.01cm至不超过0.3175cm；

在不超过3,000尔格每介质粒子的平均动能下研磨以获得经研磨的粉末，

其中所述经研磨的粉末具有大于4m²/g的BET表面积，至少为3的纵横比以及不超过30ppm的金属杂质。

2.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，包括在不超过1,000尔格每介质粒子的平均动能下研磨。

3.根据权利要求2所述的增加钽粒子的表面积的方法，包括在不超过100尔格每介质粒子的平均动能下研磨。

4.根据权利要求3所述的增加钽粒子的表面积的方法，包括在不超过5尔格每介质粒子的平均动能下研磨。

5.根据权利要求4所述的增加钽粒子的表面积的方法，包括在不超过2尔格每介质粒子的平均动能下研磨。

6.根据权利要求5所述的增加钽粒子的表面积的方法，包括在不超过1尔格每介质粒子的平均动能下研磨。

7.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述介质包含这样的材料，该材料选自由氧化锆、氧化钇稳定的氧化锆、440不锈钢、玻璃、碳化钨、钽、铌、氮化钽、氮化铌、碳化钽及其混合物组成的组。

8.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述介质是球形的。

9.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的BET表面积大于5m²/g。

10.根据权利要求9所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的BET表面积大于6m²/g。

11.根据权利要求10所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的BET表面积大于7m²/g。

12.根据权利要求11所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的BET表面积大于8m²/g。

13.根据权利要求12所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的BET表面积大于9m²/g。

14.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末具有不超过30ppm的选自铁、镍和铬的杂质。

15.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末具有不超过30ppm的选自铁、镍、铬、硅和锆的杂质。

16.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述钽粉末的CV/g小于30,000微法拉伏特每克。

17.根据权利要求16所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述钽粉末的CV/g小于50,000微法拉伏特每克。

18.根据权利要求17所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述钽粉末的CV/g小于100,000微法拉伏特每克。

19.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的CV/g至少为180,000微法拉伏特每克。

20.根据权利要求19所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的CV/g至少为200,000微法拉伏特每克。

21.根据权利要求20所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述经研磨的粉末的CV/g至少为250,000微法拉伏特每克。

22.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中在不超过120rpm的主动轴转速下获得所述平均动能。

23.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述研磨装置选自由立式球磨机、罐式磨机、振动球磨机和水平搅拌球磨机组成的组。

24.根据权利要求1所述的增加钽粒子的表面积的方法，其中所述介质包含钢。

25.一种由权利要求1的方法形成的钽粉末。