[发明专利]193NM激光器及检验系统有效
申请号: | 201480013519.1 | 申请日: | 2014-01-24 |
公开(公告)号: | CN105191026B | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 勇-霍·亚历克斯·庄;J·约瑟夫·阿姆斯特朗;弗拉基米尔·德里宾斯基;邓宇俊;约翰·费尔登 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/108 | 分类号: | H01S3/108;H01S3/13 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 193 nm 激光器 检验 系统 | ||
1.一种用于产生大约193.4nm的输出波长的激光器,所述激光器包括:
基波激光器;
光学参数产生器,其耦合到所述基波激光器,用于产生经下变频信号,从而在下变频过程中仅部分基波光被消耗;
四次谐波产生器,其耦合到所述光学参数产生器,以使得所述基波光的未被消耗部分从所述光学参数产生器引导到所述四次谐波产生器,用于产生四次谐波;及
混频模块,其耦合到所述光学参数产生器及所述四次谐波产生器,用于产生具有等于所述四次谐波与所述经下变频信号的频率的两倍的和的频率的激光输出,
其中所述混频模块包括两个非线性晶体,第一非线性晶体经配置以通过第II型转换而产生等于所述四次谐波与经下变频信号的所述频率的和的频率,且第二非线性晶体经配置以通过第I型转换而产生等于所述四次谐波与所述经下变频信号的所述频率的所述两倍的所述和的所述频率。
2.根据权利要求1所述的激光器,其中所述基波激光器产生大约1064.3nm、大约1053nm、大约1047nm或大约1030nm的基波频率。
3.根据权利要求1所述的激光器,其中所述光学参数产生器包含周期性极化的非线性光学晶体。
4.根据权利要求3所述的激光器,其中所述周期性极化的非线性光学晶体为铌酸锂、经氧化镁掺杂的铌酸锂、化学计量钽酸锂、经氧化镁掺杂的化学计量钽酸锂及磷酸钛氧钾KTP中的一者。
5.根据权利要求1所述的激光器,其中所述经下变频信号具有大约1380nm到1612nm的信号波长。
6.根据权利要求5所述的激光器,其中所述经下变频信号具有大约1416nm的信号波长。
7.根据权利要求1所述的激光器,其中所述激光器为连续波激光器、Q开关激光器、锁模激光器或准连续波激光器中的一者。
8.根据权利要求1所述的激光器,其中所述光学参数产生器包含光学参数放大器或光学参数振荡器。
9.根据权利要求1所述的激光器,其中所述基波激光器包含激光二极管或光纤激光器。
10.根据权利要求1所述的激光器,其中所述混频模块包含硼酸铯锂CLBO晶体、β硼酸钡BBO晶体或三硼酸锂LBO晶体。
11.一种用于产生大约193.4nm的输出波长的激光器,所述激光器包括:
基波激光器;
第一倍频模块,其耦合到所述基波激光器,用于产生二次谐波;
第二倍频模块,其耦合到所述第一倍频模块,用于产生四次谐波;
光学参数产生器,其耦合到所述第一倍频模块,以使得未被消耗的基波光从所述第一倍频模块引导到所述光学参数产生器,或所述光学参数产生器耦合到所述基波激光器,用于产生经下变频信号;及
混频模块,其耦合到所述光学参数产生器及所述第二倍频模块,用于产生具有等于所述四次谐波与所述经下变频信号的频率的两倍的和的频率的激光输出,
其中所述混频模块包括两个非线性晶体,第一非线性晶体经配置以通过第I型转换而产生等于所述四次谐波与所述经下变频信号的频率的和的频率,且第二非线性晶体经配置以通过第II型转换而产生等于所述四次谐波与所述经下变频信号的所述频率的所述两倍的所述和的所述频率。
12.根据权利要求11所述的激光器,其中所述基波激光器产生大约1064.3nm、大约1053nm、大约1047nm或大约1030nm的基波频率。
13.根据权利要求12所述的激光器,其中所述光学参数产生器包含周期性极化的非线性光学晶体。
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