[发明专利]光催化剂及使用其的光催化剂分散液、光催化剂涂料、光催化剂膜和制品有效
申请号: | 201480013558.1 | 申请日: | 2014-03-11 |
公开(公告)号: | CN105451882B | 公开(公告)日: | 2018-03-20 |
发明(设计)人: | 福士大辅;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;新田晃久;乾由贵子;大田博康 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝高新材料公司 |
主分类号: | B01J35/02 | 分类号: | B01J35/02;A61L9/00;A61L9/01;B01D53/86;B01J23/30;B01J23/652 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 吴宗颐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光催化剂 使用 分散 涂料 制品 | ||
1.光催化剂,其具备氧化钨基微粒,其中含有5质量%以上至100质量%以下的范围的氧化钨,
在上述光催化剂采用拉曼分光法测定的拉曼光谱中,在920cm-1以上至950cm-1以下的范围观察到的峰的强度X与在800cm-1以上至810cm-1以下的范围观察到的峰的强度Y之比(X/Y)为0.001以上至0.03以下。
2.权利要求1所述的光催化剂,其中,上述氧化钨基微粒含有0.001质量%以上至50质量%以下范围的除了钨以外的金属元素。
3.权利要求2所述的光催化剂,其中,上述金属元素为选自钛、锆、锰、铁、钌、镍、钯、铂、铜、银、铈和铝中的至少1种。
4.权利要求3所述的光催化剂,其中,上述金属元素的含量在0.005质量%以上至10质量%以下的范围。
5.权利要求1所述的光催化剂,其中,上述氧化钨基微粒含有0.01质量%以上至70质量%以下范围的除了氧化钨以外的金属氧化物。
6.权利要求5所述的光催化剂,其中,上述金属氧化物为选自氧化锆、氧化钛和氧化钌中的至少1种。
7.权利要求1所述的光催化剂,其中,上述氧化钨基微粒的平均粒径D50为1nm以上至30μm以下。
8.光催化剂分散液,其具备分散介质、以及在上述分散介质中以0.001质量%以上至50质量%以下的范围分散的、权利要求1所述的光催化剂。
9.权利要求8所述的光催化剂分散液,其中,上述分散介质为选自水和醇中的至少1种。
10.权利要求9所述的光催化剂分散液,其中,上述光催化剂分散液的pH值为1以上至9以下。
11.光催化剂涂料,其含有权利要求8所述的光催化剂分散液、以及选自无机粘合剂和有机粘合剂中的至少1种粘合剂成分。
12.光催化剂膜,其是通过将权利要求8所述的光催化剂分散液涂布在基材上形成的。
13.光催化剂膜,其是通过将权利要求11所述的光催化剂涂料涂布在基材上形成的。
14.制品,其具备权利要求12所述的光催化剂膜。
15.制品,其具备权利要求13所述的光催化剂膜。
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