[发明专利]含铂的钴基合金的电抛光

权利要求书

1.一种具有电抛光表面的不透射线体，包括：

所述不透射线体由钴基合金形成，所述钴基合金包括约18重量百分数(wt％)至约39wt％的钴、约10wt％至约25wt％的铬、约20wt％至约65wt％的铂，并且其中，所述钴基合金基本上不含钼。

2.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述电抛光表面是光滑的电抛光表面。

3.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述钴基合金通过下述方法被电抛光，所述方法包括：

将所述不透射线体放置在电抛光池的电抛光电解质溶液中，其中，所述电抛光电解质包括HCl、H₂SO₄或H₃PO₄中的一种或更多种，以及一种或更多种增稠剂；以及

在所述电抛光池的电抛光电解质溶液中对所述不透射线体进行电抛光，其中，所述电抛光包括交变电流，其正向电压与反向电压的比约为2，并且正向脉冲和反向脉冲均具有在约0.003秒至约0.010秒的范围内的持续时间。

4.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述钴基合金进一步包括约5wt％至约12wt％的铁。

5.根据权利要求4所述的不透射线体，其中，所述钴基合金是本质上由钴、铬、铂和铁所组成的四元合金。

6.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述钴基合金进一步包括约1wt％至约25wt％的锰。

7.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述钴基合金进一步包括选自由钯、铑、铱、锇、钌、银和金所组成的组中的一种或更多种铂族金属。

8.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述钴基合金基本上不含钨。

9.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述钴基合金完全不含镍。

10.根据权利要求1所述的不透射线体，其中，所述钴基合金是本质上由钴、铬和铂所组成的三元合金。

11.一种对金属体进行电抛光的方法，包括：

将所述金属体放置在电抛光池的电抛光电解质溶液中，其中，所述电抛光电解质包括HCl、H₂SO₄或H₃PO₄中的一种或更多种，以及一种或更多种增稠剂；以及

在所述电抛光池的电抛光电解质溶液中对所述金属体进行电抛光，其中，所述电抛光包括交变电流，其正向电压与反向电压的比约为2，并且正向脉冲和反向脉冲均具有在约0.003秒至约0.010秒范围内的持续时间。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述正向电压在约10伏特至约25伏特的范围内，而所述反向电压在约5伏特至约12.5伏特的范围内。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述电抛光包括约6000个至15000个或更多个正向电压与反向电压的循环的电抛光运行。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述电抛光包括1个至5个电抛光运行。

15.根据权利要求11所述的方法，其中，所述电抛光池中的电抛光电解质溶液被保持在约-10℃至约22℃的温度。

16.根据权利要求11所述的方法，其中，所述电抛光电解质溶液包括：硫酸(H₂SO₄)、盐酸(HCl)、磷酸(H₃PO₄)、选自由乙二醇、乙二醇单丁醚、丙三醇、聚乙二醇及其组合所组成的组中的增稠剂，以及水或C₁-C₄醇中的一种。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，H₂SO₄、HCl和H₃PO₄的比在约3:3:5至约2:2:3的范围内。