[发明专利]具光提取层的有机发光二极管

权利要求书

1.一种光提取基板，其包括：

基板，具有第一表面以及第二表面；

光提取层，位于所述第一表面或所述第二表面的至少一部分上方，所述光提取层包括包含纳米颗粒的聚合物涂层，所述涂层由可固化涂层材料形成，所述涂层材料中基于所述涂层材料的总重量以0.1重量％至5重量％的量并入纳米颗粒，其中所述光提取层具有介于50纳米至500纳米范围内的平均表面粗糙度，以及其中具有所述光提取层的所述基板具有介于10％至50％范围内的混浊度，

阳极，位于所述光提取层的至少一部分上方；

光发射层，位于所述阳极的至少一部分上方；以及

其中所述光提取层具有介于所述光发射层的折射率与所述基板的折射率之间的折射率。

2.如权利要求1所述的光提取基板，其中所述基板包括玻璃。

3.如权利要求1所述的光提取基板，其中所述纳米颗粒选自由以下组成的组：氧化银、氧化铝、二氧化钛、氧化铈、氧化锌、氧化锡、二氧化硅、氧化锆及其组合。

4.如权利要求1所述的光提取基板，其中所述光提取层具有介于100nm至4000nm范围内的厚度。

5.如权利要求1所述的光提取基板，其中所述涂层材料包括含硅涂层材料。

6.如权利要求1所述的基板，其中涂层材料是有机硅烷材料。

7.一种发光器件，其包括：

玻璃基板，具有第一表面及第二表面；

光提取层，旋转沉积在所述第一表面的至少一部分上方，所述光提取层包括：包括纳米颗粒的含硅聚合物涂层，所述涂层由可固化涂层材料形成，所述涂层材料中基于所述涂层材料的总重量以0.1重量％至5重量％的量并入纳米颗粒；

阳极，位于所述光提取层的至少一部分上方；

光发射层，位于所述阳极的至少一部分上方；以及

阴极，位于所述光发射层的至少一部分上方；

其中所述光提取层具有介于50纳米至500纳米范围内的平均表面粗糙度，以及其中具有所述光提取层的所述基板具有介于10％至50％范围内的混浊度，

其中所述光提取层具有介于所述光发射层的折射率与所述基板的折射率之间的折射率。

8.如权利要求7所述的发光器件，其中所述光提取层位于所述基板与所述发射层之间。

9.如权利要求7所述的发光器件，其中所述光提取层位于所述基板与所述阳极之间。

10.如权利要求7所述的发光器件，其中所述纳米颗粒选自由以下组成的组：氧化银、氧化铝、二氧化钛、氧化铈、氧化锌、氧化锡、二氧化硅、氧化锆及其组合。

11.如权利要求7所述的发光器件，其中所述光提取层具有介于100nm至4000nm范围内的厚度。

12.如权利要求7所述的发光器件，其中所述涂层材料包括聚合有机硅烷材料。

13.一种制备发光器件的方法，其包括以下步骤：

将含有纳米颗粒的溶液与含硅聚合物涂层材料混合以形成涂层组合物，其中所述涂层组合物由可固化涂层材料形成，所述涂层材料中基于所述涂层材料的总重量以介于0.1重量％至5重量％的量并入纳米颗粒；

将所述涂层组合物旋涂至玻璃基板的表面上；

加热所涂覆的玻璃基板以在所述玻璃基板的表面上形成光提取层；

在所述光提取层的至少一部分上方提供阳极；

在所述阳极的至少一部分上方提供光发射层；以及

在所述光发射层的至少一部分上方提供阴极；

其中所述光提取层具有介于50纳米至500纳米范围内的平均表面粗糙度，以及其中具有所述光提取层的所述基板具有介于10％至50％范围内的混浊度，其中所述光提取层具有介于所述光发射层的折射率与所述基板的折射率之间的折射率。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述涂层材料包括有机硅烷材料。