[发明专利]光学元件以及包括光学元件的光电组件有效

专利信息
申请号: 201480015021.9 申请日: 2014-02-26
公开(公告)号: CN105074532B 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: U.施特雷佩尔 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: G02B19/00 分类号: G02B19/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 胡莉莉,刘春元
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 元件 以及 包括 光电 组件
【权利要求书】:

1.一种光学元件(100),

具有第一表面(110)和第二表面(120),

其中,具有在第二方向(20)上定向的多个齿(210)的齿结构(200)被布置在所述第一表面(110)上,

其中,具有在第一方向(10)上定向的多个阶梯(310)的阶梯化透镜(300)被布置在所述第二表面(120)上,

其中,所述齿结构(200)形成全内反射透镜。

2.如权利要求1所述的光学元件(100),

其中,所述第一方向(10)和所述第二方向(20)在它们之间成在85°和95°之间的角度(40)。

3.如权利要求1和2中任一项所述的光学元件(100),

其中,由所述齿结构(200)覆盖所述第一表面(110)的中点(111)。

4.如权利要求1和2中任一项所述的光学元件(100),

其中,所述光学元件(100)包括光学透明塑料。

5.如权利要求1和2中任一项所述的光学元件(100),

其中,所述第一表面(110)和所述第二表面(120)实质上被矩形地配置。

6.如权利要求1和2中任一项所述的光学元件(100),

其中,所述光学元件(100)包括框(130),所述框(130)包围所述第一表面(110)和所述第二表面(120)。

7.如权利要求1和2中任一项所述的光学元件(100),

其中,所述光学元件(100)被意图用来对从具有被限定的边沿长度(412)的辐射表面(411)出现的电磁辐射的辐射轮廓(260、270、360、370)进行塑形。

8.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述齿结构(200)的齿(210)具有在所述边沿长度(412)的5%和20%之间的平均齿高度(220)。

9.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述齿结构(200)的两个齿(210、211、212)具有不同的齿高度(221、222)。

10.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述齿结构(200)的两个相邻的齿(210)具有在所述边沿长度(412)的5%和20%之间的齿间距(230)。

11.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述齿结构(200)的齿(210)在与所述第一方向(10)垂直的平面中弯曲,

其中,弯曲(240)具有至少为所述边沿长度(412)的两倍的曲率半径(241)。

12.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述阶梯化透镜结构(300)的阶梯(310)具有在所述边沿长度(412)的5%和20%之间的最大阶梯高度(320)。

13.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述阶梯化透镜结构(300)的两个阶梯(310、311、312)具有不同的阶梯高度(321、322)。

14.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述阶梯化透镜结构(300)的两个相邻的阶梯(310)具有在所述边沿长度(412)的5%和30%之间的阶梯间距(330)。

15.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述齿结构(200)和所述阶梯化透镜结构(300)在它们之间具有在所述边沿长度(412)的30%和120%之间的距离(140)。

16.如权利要求7所述的光学元件(100),

其中,所述齿结构(200)的中心截面与所述齿结构(200)的侧向截面相比更远离开所述阶梯化透镜结构(300)一长度(250),

其中,所述长度(250)在所述边沿长度(412)的20%和50%之间。

17.一种光电组件(400),

具有光电半导体芯片(410),

以及如前述权利要求之一所述的光学元件(100)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司,未经奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480015021.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top