[发明专利]用于生物杀灭剂的聚焦气相应用的装置和方法

权利要求书

1.一种对目标氧化、净化、消毒和/或灭菌的方法，所述方法包括：

以25至900英尺/秒的速度从气体源喷射包含50至30,000ppm_v二氧化氯的气态混合物的气流；和

使所述气流与目标接触。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述气态混合物包含2,000至10,000ppm_v的二氧化氯。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，以600至800英尺/秒的速度从气体源喷射所述气流。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述目标选自：

（1）至少是天花板或墙壁的一部分；

（2）至少是医疗仪器的一部分;

（3）皮肤区;

（4）至少是哺乳动物伤口的一部分；和

（5）至少是医疗程序区的一部分。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述气流以15至500英尺/秒的速度接触所述目标。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述气流以50至250英尺/秒的速度接触所述目标。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述气体源是喷嘴。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，在气流的喷射期间，所述气体源位于距离目标0.5至25厘米处。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，在应用区中进行所述接触，其中在应用区中每分钟空气的循环速率为至少5英尺/秒，并且其中由于在应用区中空气的循环，使目标上的所述气流的速度增加。

10.根据权利要求1-9任一项所述的方法，其中，在密闭的应用区中进行接触。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述应用区保持负压。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，密封所述应用区，所述应用区包括所述气体源、目标和真空源。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述真空回收所消耗的气态混合物，而且其中再循环所述的所消耗的气态混合物，用于在后续的自气体源的一个或多个喷射周期。

14.一种用于对目标氧化、净化、消毒和/或灭菌的设备，所述设备包括：

二氧化氯入口，被配置为用于摄入含有50至30,000ppm_v二氧化氯的气态混合物；和

气体源，被配置为以25至900英尺/秒的速度喷射气态混合物的气流。

15.根据权利要求14所述的设备，还包括密闭装置，所述密闭装置容纳气体源并被配置为限定应用区。

16.根据权利要求15所述的设备，其中，配置所述密闭装置以与将进行灭菌的目标有关的应用区密封。

17.根据权利要求16所述的设备，其中，所述目标选自：

（1）至少是天花板或墙壁的一部分;

（2）至少是医疗仪器的一部分;

（3）皮肤区;

（4）至少是哺乳动物伤口的一部分;和

（5）至少是医疗程序区的一部分。

18.根据权利要求14-17任一项所述的设备，其中所述设备还包括真空源，被配置为回收所消耗的气态混合物。

19.根据权利要求18所述的设备，其中，配置所述设备用于再循环所消耗的气态混合物，用于后续的自气体源的一个或多个喷射循环。

20.根据权利要求19所述的设备，其中，配置所述二氧化氯入口用于从二氧化氯源摄入二氧化氯，而且其中所述设备包括气体返回组件，其将所消耗的气态混合物返回至二氧化氯源用于再循环。

21.根据权利要求20所述的设备，其中，所述气体返回组件包括或连接至过滤器和二氧化氯洗涤器。