[发明专利]催化剂转印膜用基材膜和其制造方法、催化剂转印膜的制造方法、带催化剂层电解质膜

权利要求书

1.一种催化剂转印膜用的基材膜，其是在催化剂转印膜中使用的基材膜，该催化剂转印膜具有基材膜和在该基材膜的一个面上由催化剂墨水形成的催化剂层，该催化剂转印膜将所述催化剂层转印到固体高分子电解质膜上，

其特征在于，

在为了使所述催化剂层形成为目标图案而事先设定的目标区域的周缘区域，设置由与所述催化剂墨水不具有亲和性的表面处理材料形成的周缘层。

2.根据权利要求1所述的催化剂转印膜用的基材膜，其特征在于，

使所述表面处理材料为疏水性的表面处理材料。

3.根据权利要求2所述的催化剂转印膜用的基材膜，其特征在于，

使所述疏水性的表面处理材料为硅烷偶联剂。

4.根据权利要求2或3所述的催化剂转印膜用的基材膜，其特征在于，

使所述目标区域的水接触角小于或等于15度，并且使所述周缘区域的水接触角大于或等于100度。

5.一种催化剂转印膜用的基材膜的制造方法，其制作在催化剂转印膜中使用的基材膜，该催化剂转印膜具有基材膜和在该基材膜的一个面上由催化剂墨水形成的催化剂层，该催化剂转印膜将所述催化剂层转印到固体高分子电解质膜上，其特征在于，

该方法具有目标区域形成工序，该工序为在所述基材膜的一个面的整个面上，涂膜与所述催化剂墨水不具有亲和性的表面处理材料后，去除为了使所述催化剂层形成为目标图案而事先设定的目标区域上的表面处理材料。

6.根据权利要求5所述的催化剂转印膜用的基材膜的制造方法，其特征在于，

在所述目标区域形成工序中去除所述表面处理材料的方法为，经由在其表面加工形成有与所述目标图案相同图案的光掩模，向所述一个面照射真空紫外光的方法。

7.一种催化剂转印膜的制造方法，该催化剂转印膜具有：通过权利要求5或6所述的基材膜的制造方法制作的基材膜、和由催化剂墨水形成的催化剂层，其特征在于，

具有向所述目标区域滴落所述催化剂墨水的催化剂墨水滴落工序。

8.根据权利要求7所述的催化剂转印膜的制造方法，其特征在于，

还具有去除所述目标区域的周缘区域上的表面处理材料的去除工序。

9.根据权利要求8所述的催化剂转印膜的制造方法，其特征在于，

使在所述去除工序中去除所述表面处理材料的方法为向所述周缘区域照射真空紫外光的方法。

10.一种带催化剂层电解质膜，其中，

该带催化剂层电解质膜通过以下方式制作：使用通过权利要求7～9中任一项所述的催化剂转印膜的制造方法制作的催化剂转印膜，将电极用的催化剂层转印到固体高分子电解质膜上。

11.根据权利要求10所述的带催化剂层电解质膜，其特征在于，

形成于所述固体高分子电解质膜的至少一个面上的所述催化剂层的周缘部中的最外侧位置和最内侧位置的间隔小于或等于2.0μm。