[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板和磁盘的制造方法

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该磁盘用玻璃基板的制造方法适用于下述DFH磁头对应的磁盘，该DFH磁头对应的磁盘搭载有HDI传感器，能够基于来自所述HDI传感器的信号对记录再生元件的至少一个元件的突出量进行控制，

该磁盘用玻璃基板的制造方法包括下述研磨处理：向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含胶态二氧化硅的研磨液，使玻璃基板与研磨垫接触，对玻璃基板的主表面进行镜面研磨，其特征在于，

为了防止含有铝Al、硅Si和氧O的各元素的异物的产生，至少在酸性环境下对所述研磨液进行调整，

所述异物是异物在X-Y平面中位于X、Y轴方向的大小分别在30nm～200nm的范围内、并且异物的厚度的大小在1nm～20nm的范围内的平坦层状异物。

2.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该磁盘用玻璃基板的制造方法适用于下述DFH磁头对应的磁盘，该DFH磁头对应的磁盘搭载有HDI传感器，能够基于来自所述HDI传感器的信号对记录再生元件的至少一个元件的突出量进行控制，

该磁盘用玻璃基板的制造方法包括下述研磨处理：向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含胶态二氧化硅的研磨液，使玻璃基板与研磨垫接触，对玻璃基板的主表面进行镜面研磨，其特征在于，

作为所述研磨液，选择不含有含铝Al、硅Si和氧O的各元素的异物的研磨液，在将所述玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，所述各元素可抑制记录再生，所述异物是异物在X-Y平面中位于X、Y轴方向的大小分别在30nm～200nm的范围内、并且异物的厚度的大小在1nm～20nm的范围内的平坦层状异物；

利用该选择的研磨液进行所述研磨处理。

3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述异物为层状化合物，异物的平面中位于Y轴方向的大小相对于异物的厚度的大小之比在5～200的范围内。

4.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述胶态二氧化硅是利用离子交换法所制造的。

5.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述胶态二氧化硅中的铝Al的含量为5μg/g以下。

6.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述研磨处理后，以清洗前后的玻璃基板的表面粗糙度Rq之差为0.05nm以下的条件进行玻璃基板的清洗处理。

7.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板是在搭载于服务器用的硬盘驱动器的磁盘中所用的玻璃基板。

8.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该磁盘用玻璃基板的制造方法适用于下述DFH磁头对应的磁盘，该DFH磁头对应的磁盘搭载有HDI传感器，能够基于来自所述HDI传感器的信号对记录再生元件的至少一个元件的突出量进行控制，

该磁盘用玻璃基板的制造方法包括下述研磨处理：向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含胶态二氧化硅的研磨液，使玻璃基板与研磨垫接触，对玻璃基板的主表面进行镜面研磨，其特征在于，

在将所述玻璃基板作成磁盘并用所述DFH磁头进行记录再生时，为了防止可抑制所述记录再生的异物的产生，所述研磨液进行了调整，所述异物是异物在X-Y平面中位于X、Y轴方向的大小分别在30nm～200nm的范围内、并且异物的厚度的大小在1nm～20nm的范围内的平坦层状异物。

9.一种磁盘的制造方法，其特征在于，在利用权利要求1～8中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法所得到的磁盘用玻璃基板的主表面上至少形成磁性膜。

10.一种磁盘用玻璃基板，其为具有主表面的磁盘用玻璃基板，其特征在于，

对于所述基板的主表面，利用原子力显微镜以256×256像素的分解率测定1μm×1μm见方的测定区域时的算术平均粗糙度Ra为0.15nm以下，且30nm～200nm的波段的算术平均粗糙度Ra为0.06nm以下，

对于所述基板的主表面，以6μm的光斑直径照射波长405nm、功率80mW的激光，通过来自所述基板的主表面的散射光检测出异物时，每一个主表面存在30个以下的面内方向的大小为30nm～200nm的缺陷，且检测出的缺陷中不包含平坦层状异物，所述平坦层状异物中，异物在X-Y平面中位于X、Y轴方向的大小分别在30nm～200nm的范围内，并且异物的厚度的大小在1nm～20nm的范围内。