[发明专利]光扩散膜和光扩散膜的制造方法有效
申请号: | 201480018417.9 | 申请日: | 2014-02-25 |
公开(公告)号: | CN105074509B | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 草间健太郎;片桐麦;大类知生;所司悟 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;C08F20/30;C08F299/06;C08L33/14;C08L55/00;G02F1/1335 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 童春媛,刘力 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扩散 制造 方法 | ||
1.光扩散膜,该光扩散膜具有单一层的光扩散层,所述单一层的光扩散层沿着膜膜厚方向自下方起依次具有使折射率相对高的多个柱状物林立于折射率相对低的区域中而成的第1柱结构区域和第2柱结构区域,其特征在于,
所述第1柱结构区域和第2柱结构区域中的所述柱状物的主成分为含有多个芳环的(甲基)丙烯酸酯聚合物,所述折射率相对低的区域的主成分为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的聚合物,
使折射率相对低的区域与折射率相对高的柱状物的折射率之差为0.01以上且0.3以下的值,
使所述第1柱结构区域中,所述柱状物的截面的最大直径为0.1-15μm范围内的值,
使所述第1柱结构区域中,所述柱状物间的距离为0.1-15μm范围内的值,
使所述第1柱结构区域中,所述柱状物的厚度为30-500μm范围内的值,
使所述第2柱结构区域中,所述柱状物的厚度为10-200μm范围内的值,
以膜膜厚为100%时,使所述第1柱结构区域和第2柱结构区域的厚度的合计为80%以上的值,
所述光扩散膜具有所述第1柱结构区域的上端部与所述第2柱结构区域的下端部重叠的重复柱结构区域,并且
使所述重复柱结构区域的厚度为5-30μm范围内的值,
以膜膜厚为100%时,使所述重复柱结构区域的厚度为0.1-10%范围内的值,
而且,使所述膜的总膜厚为60-700μm范围内的值。
2.权利要求1所述的光扩散膜,其特征在于:所述重复柱结构区域是分别来自所述第1柱结构区域和第2柱结构区域的所述柱状物中的任一方的前端与来自另一方的柱结构区域的柱状物的前端附近接触而成的。
3.权利要求1所述的光扩散膜,其特征在于:所述重复柱结构区域中,使分别来自所述第1柱结构区域和第2柱结构区域的所述柱状物的倾斜角之差的绝对值为1°以上的值。
4.权利要求1所述的光扩散膜的制造方法,其特征在于,该制造方法含有下述工序(a)-(d):
(a)准备光扩散膜用组合物的工序;
(b)对加工片涂布所述光扩散膜用组合物,形成涂层的工序;
(c)对所述涂层进行第1活性能量射线照射,在所述涂层的下方部分形成第1柱结构区域,并且在所述涂层的上方部分残留柱结构未形成区域的工序;
(d)对所述涂层进行第2活性能量射线照射,在所述柱结构未形成区域形成第2柱结构区域的同时,形成所述第1柱结构区域的上端部与所述第2柱结构区域的下端部重叠的厚度为5-30μm范围内的值的重复柱结构区域的工序。
5.权利要求4所述的光扩散膜的制造方法,其特征在于:在氧存在气氛下实施所述第1活性能量射线照射,并且在非氧气氛下实施所述第2活性能量射线照射。
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