[发明专利]用于相当长的待涂覆元件的粉末涂覆系统有效
申请号: | 201480019519.2 | 申请日: | 2014-03-25 |
公开(公告)号: | CN105102135B | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 西尔维奥·玛丽亚·特雷维桑 | 申请(专利权)人: | SAT(金属铝壳技术)股份公司 |
主分类号: | B05B13/02 | 分类号: | B05B13/02;B05B15/12;B05D7/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 杨生平,钟锦舜 |
地址: | 意大利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 相当 待涂覆 元件 粉末 系统 | ||
1.一种用于相当长的待涂覆元件的粉末涂覆系统(I),其特征在于,所述粉末涂覆系统在全部占据的占地面积(800)内包括:专用于员工工作活动的安全区域(50),显示专用于加载阶段的区域以及专用于将完成元件从架空传送管线(2)卸载的阶段的区域,所述安全区域(50)标记单个中间模块(101)的周边,以显示生产过程的活动以及显示预先布置在那里并且确定为专用于所述待涂覆元件的预处理的单元(200)、专用于所述待涂覆元件的干燥的单元(300)以及用于沉积在待涂覆元件上的涂覆粉末的聚合的单元(500)的特定单元,还设有专用于涂覆的单元(400)以及用于待涂覆元件(1)的随着曲折路径延伸的架空传送管线(2),所述预处理单元(200)包括预处理通道(201),其中第一站(3)、第二站(4)、清洗站(7)设有沿着所述架空传送管线(2)的路径的以180°并排的至少两个轨道的相应的第一收集储液箱(5)、第二收集储液箱(6)、第三收集储液箱(8),并且用于沉积在待涂覆的元件上涂覆粉末的聚合的单元(500)包括具有通过至少一个热发生器(19a)加热的高温热空气的至少一个聚合炉(501),并且专用于所述待涂覆元件的干燥的单元(300)包括具有在低温下的热空气的至少一个干燥炉(301),所述聚合炉(501)与所述干燥炉(301)彼此是并排的且毗连的并且关于所述传送管线(2)的路径的以180°并排的至少两个轨道是并排的且毗连的。
2.根据权利要求1所述的粉末涂覆系统,其特征在于,所述粉末涂覆系统在所述安全区域(50)中包括加载站(100),其中通过钩系统将在水平位置中的相当长的所述待涂覆元件(1)钩到所述架空传送管线(2)。
3.根据权利要求2所述的粉末涂覆系统,其特征在于,所述钩系统通过所述架空传送管线(2)的向上倾斜路径(2a)将所述待涂覆元件(1)从水平位置移动到悬挂在所述架空传送管线(2)上的竖直位置,其中在用于存储其的容器(la)中发现了所述待涂覆元件。
4.根据权利要求3所述的粉末涂覆系统,其特征在于,在所述安全区域(50)中的所述加载站(100)在所述倾斜路径(2a)处的地板上包括具有倾斜斜面与突出部(21)的加载系统,这防止了在从所述水平位置过渡到所述竖直位置过程中,所述待涂覆元件(1)之间的接触,以及由此防止损伤表面。
5.根据权利要求4所说的粉末涂覆系统,其特征在于,所述待涂覆元件(1)为具有不同长度的待涂覆元件(1)。
6.根据权利要求1所述的粉末涂覆系统,其特征在于,所述预处理单元(200)包括预处理通道(201),其中所述待涂覆元件(1)通常通过处理流体在第一站(3)中经历至少一个酸脱脂周期以及在第二站(4)中经历至少一个酸脱氧周期,所述处理流体从上方喷射所述待涂覆元件(1)并且然后在下方通过液滴收集在相应地用于所述第一站(3)的流体的第一收集储液箱(5)以及用于所述第二站(4)的流体的第二收集储液箱(6)。
7.根据权利要求1所述的粉末涂覆系统,其特征在于,所述预处理单元(200)包括预处理通道(201),其中所述待涂覆元件(1)经过具有不同地喷射的自来水的至少一个清洗站(7),所述自来水在下方收集于至少一个第三收集储液箱(8)中,其然后在那里被适当地处理与再循环。
8.根据权利要求6所述的粉末涂覆系统,其特征在于,所述预处理单元(200)包括预处理通道(201),其中所述预处理通道(201)中的至少一个壁(9)有利地以塑料材料实现。
9.根据权利要求6所述的粉末涂覆系统,其特征在于,所述预处理单元(200)包括预处理通道(201),其中所述第一收集储液箱(5)和所述第二收集储液箱(6)中的至少一个有利地以塑料材料实现。
10.根据权利要求1所述的粉末涂覆系统,其特征在于,所述涂覆单元(400)包括涂覆小隔间(401),所述涂覆小隔间(401)具有通过第一顶点(A)、第二顶点(B)与第三顶点(C)示意性指示的三角形平面,在所述三角形平面内所述传送管线(2)进入具有作为端部的所述第二顶点与第三顶点(B和C)的侧面(BC),以便完成使所述待涂覆元件(1)朝向所述第一顶点(A)、然后返回并且使所述待涂覆元件(1)相对于所述第一顶点(A)在基本上对称位置中离开所述侧面(BC)的路径。
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