[发明专利]包含双硅烷化合物的涂覆组合物

权利要求书

1.一种涂覆组合物，其特征在于，包含：

下述化学式1所表示的双硅烷化合物、

石墨烯或导电性高分子、和

酸性或碱性水溶液与醇的混合溶剂，

化学式1的Si-OH比率为全部硅烷残基Si-R'的50％以上，

[化学式1]

在所述式中，

R选自由碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至6的环烷基、碳原子数6至30的芳基以及它们的组合组成的组，

R'各自独立地选自由羟基、碳原子数1至20的烷氧基、碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至6的环烷基、碳原子数6至30的芳基、氨基、乙烯基、环氧基、硫醇基以及它们的组合组成的组，

n为1至20的整数。

2.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其特征在于，化学式1的Si-OH比率为全部硅烷残基Si-R'的98％以上。

3.根据权利要求1所述的涂覆组合物，包含0.005至90重量％的石墨烯或导电性高分子。

4.一种权利要求1所述的涂覆组合物的制造方法，其特征在于，将下述化学式2所表示的硅烷化合物在酸性或碱性水溶液与醇的混合溶剂中进行搅拌，并且混合石墨烯或导电性高分子，

[化学式2]

在所述式中，

R选自由碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至6的环烷基、碳原子数6至30的芳基以及它们的组合组成的组，

R'各自独立地选自由羟基、碳原子数1至20的烷氧基、碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至6的环烷基、碳原子数6至30的芳基、氨基、乙烯基、环氧基、硫醇基以及它们的组合组成的组，并且至少2个以上是羟基或烷氧基，

n为1至20的整数。

5.根据权利要求4所述的涂覆组合物的制造方法，其特征在于，所述水溶液的pH为6.5以下或7.5以上。

6.根据权利要求4所述的涂覆组合物的制造方法，其特征在于，所述水溶液的pH与作为溶剂使用的醇具有根据下述计算式1计算的值满足0.001至5的范围的相关关系，

[计算式1]

(100g水溶液的pH/醇使用量(g))×100。

7.根据权利要求6所述的涂覆组合物的制造方法，其特征在于，根据所述计算式1计算的值满足0.05至2的范围。

8.一种涂覆膜，其是将权利要求1所述的组合物涂覆在基材上并进行固化而制造的。

9.根据权利要求8所述的涂覆膜，其特征在于，所述涂覆膜的硬度为8H以上。

10.根据权利要求8所述的涂覆膜，其特征在于，所述涂覆膜的透过率为92％以上。

11.根据权利要求8所述的涂覆膜，其特征在于，所述涂覆膜的面电阻为8.0ohm/sq以下。

12.一种物品，其包含权利要求8所述的涂覆膜。