[发明专利]烹饪设备

权利要求书

1.一种使用至少顶部加热元件和下部电阻式加热元件来对食品两面进行烹饪的设备，所述设备包括：

(1)一个底座，该底座包括至少一个侧构件以及一个上部构件，其中所述至少一个侧构件支撑所述上部构件，一个下部加热表面被所述上部构件支撑，一个下部电阻式加热元件热连接至所述下部加热表面上，并且所述下部加热表面被适配成支撑待烹饪食品并且适合用于高达约500华氏度的温度；

(2)连接至所述底座上的、包括至少第一构件的一个底座支撑件，其中至少所述第一构件操作性地连接至一个枢转器件；

(3)一个枢转地连接至所述枢转器件上的冠盖，其中所述冠盖包括第一侧构件、与所述第一侧构件相反的第二侧构件、前部构件、上部构件、与所述前部构件相反的背部构件、以及基本上与所述上部构件相反的下部构件，

(4)一个烹饪腔室，该烹饪腔室包括从所述冠盖下部构件向上延伸的多个壁以及附接至所述壁上的一个顶板；

(5)一个热连接至顶部加热元件上的顶部加热表面，其中所述顶部加热表面连接至所述冠盖并处于所述冠盖内部；

(6)所述冠盖被适配成相对于所述底座铰链运动进入至少打开位置和关闭位置中，其中所述顶部加热表面是与所述下部加热表面相对的，并且当所述冠盖相对于所述底座铰链运动进入关闭位置中时，待烹饪食品被基本上封闭在所述顶部加热表面、所述下部加热表面、与所述烹饪腔室壁之间；

(7)所述冠盖基本上封闭至少第一微波产生器以及第一波导，其中所述第一波导将由所述第一微波产生器所产生的微波引入所述烹饪腔室中从而在所述冠盖相对于所述底座处于关闭位置并且所述第一微波产生器发射微波辐射时照射所述待烹饪食品。

2.如权利要求1所述的设备，其中，所述下部加热表面基本上包括铝。

3.如权利要求2所述的设备，其中，所述下部加热表面具有至少110平方英寸的表面积。

4.如权利要求1所述的设备，其中，所述第一波导将由所述第一微波产生器所产生的微波穿过朝向所述烹饪腔室的一侧的壁而引导至所述烹饪腔室中。

5.如权利要求4所述的设备，其中，所述冠盖进一步基本上封闭了第二微波产生器以及第二波导，其中，当所述冠盖相对于所述底座处于关闭位置并且所述第二微波产生器发射微波辐射时，所述第二波导将由所述第二微波产生器所产生的微波引入所述烹饪腔室中。

6.如权利要求5所述的设备，其中，所述第二波导将由所述第二微波产生器所产生的微波引导穿过朝向所述烹饪腔室后部的壁。

7.如权利要求6所述的设备，其中，所述顶部加热表面的一个或多个边缘包括一个成角度表面，该成角度表面被适配成用于将由所述第一和第二微波产生器所产生的微波基本上朝向所述烹饪腔室的中心引导。

8.如权利要求5所述的设备，其中，所述底座基本上封闭了一个或多个控制元件。

9.如权利要求8所述的设备，其中，所述控制元件包括以下各项中的一项或多项：计时器、用于所述下部加热表面的温度控制件、用于所述顶部加热表面的温度控制件、用于所述微波产生器的计时器、用于所述微波产生器的辐射强度控制件、以及计算机。

10.如权利要求9所述的设备，其中，所述计算机操作性地链接至所述控制元件中除所述计算机外的至少一者上，并且所述计算机能够利用所述控制元件来执行烹饪程序。

11.如权利要求10所述的设备，其中，所述烹饪程序根据烹饪程序来控制所述下部加热表面、所述顶部加热表面、所述第一微波产生器或第二微波产生器中的一者或多者的烹饪时间和烹饪温度中的一项或多项。

12.如权利要求10所述的设备，其中，所述烹饪程序以预设的量指定所述第一微波产生器或所述第二微波产生器中的一个或多个的产生作用时间和辐射强度。