[发明专利]用于谱滤波的基于泰伯效应的近场衍射

权利要求书

1.一种用于对X射线射束(B)进行谱滤波的光栅布置(100)，包括：

色散元件(10)，其包括棱镜，所述棱镜被配置为使所述X射线束(B)衍射成包括第一方向(D1)的第一射束分量(BC1)和包括第二方向(D2)的第二射束分量(BC2)，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜；

第一光栅(20)，其被配置为生成所述第一射束分量(BC1)的第一衍射图样(DP1)和所述第二射束分量(BC2)的第二衍射图样(DP2)，所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位；以及

第二光栅(30)，其包括至少一个开口(31)，所述至少一个开口沿从所述第一衍射图样(DP1)或所述第二衍射图样(DP2)的强度的最大值(MA)到最小值(MI)的线(d)对准。

2.根据权利要求1所述的光栅布置(100)，其中，所述第一方向(D1)和所述第二方向(D2)是倾斜的，形成倾斜角(α+)。

3.根据权利要求1或2所述的光栅布置(100)，其中，所述第一光栅(20)被配置为使所述第二衍射图样(DP2)沿与所述线(d)的方向相对应的方向相对于所述第一衍射图样(DP1)移位。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，所述第一射束分量(BC1)和/或所述第二射束分量(BC2)包括准单色X射线辐射。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，所述第一光栅(20)被配置为生成所述第一射束分量(BC1)的所述第一衍射图样(DP1)和所述第二射束分量(BC2)的所述第二衍射图样(DP2)作为近场衍射效应。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，借助于能量相关侧向移位使所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，所述第一光栅(20)和/或所述第二光栅(30)包括周期性结构。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，所述第一光栅(20)和/或所述第二光栅(30)被配置为能以这样的方式移动，即所述至少一个开口(31)能沿从所述第一衍射图样(DP1)或所述第二衍射图样(DP2)的强度的所述最大值(MA)到所述最小值(MI)的所述线(d)移动。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，所述色散元件(10)和所述第一光栅(20)被集成，从而构成色散光栅(40)。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，所述色散元件(10)包括棱镜(50)的周期性结构，其中，所述棱镜(50)中的每个被配置用于使X射线射束(B)衍射成包括第一方向(D1)的所述第一射束分量(BC1)和包括所述第二方向(D2)的所述第二射束分量(BC2)，并且其中，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的光栅布置(100)，其中，所述第一光栅(20)是微透镜光栅。

12.一种X射线系统(200)，具有探测器(220)、适于生成X射线的多色谱的X射线源(210)、以及至少一个根据前述权利要求中的任一项所述的光栅系统(100)。

13.一种用于对X射线射束(B)进行谱滤波的方法，包括以下步骤：

-借助于包括棱镜的色散元件(10)使所述X射线射束(B)衍射(S1)成包括第一方向(D1)的第一射束分量(BC1)和包括第二方向(D2)的第二射束分量(BC2)，所述第二方向相对于所述第一方向(D1)倾斜；

-借助于第一光栅(20)来生成(S2)所述第一射束分量(BC1)的第一衍射图样(DP1)和所述第二射束分量(BC2)的第二衍射图样(DP2)，所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位；并且

-以这样的方式来将具有至少一个开口(31)的第二光栅(30)对准(S3)，即所述至少一个开口(31)沿从所述第一衍射图样(DP1)或所述第二衍射图样(DP2)的强度的最大值(MA)到最小值(MI)的线(d)对准。