[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物

权利要求书

1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含聚合物和溶剂，所述聚合物具有由下述式(1)表示的结构单元，

式(1)中，X¹表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的二价有机基，X²表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的有机基、或甲氧基。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述式(1)中，具有至少1个芳香环的碳原子数6～20的二价有机基为亚苯基、亚联苯基、亚三联苯基、亚芴基、亚萘基、亚蒽基、亚芘基、亚咔唑基或由下述式(c)表示的基团，具有至少1个芳香环的碳原子数6～20的有机基为苯基、联苯基、三联苯基、芴基、萘基、蒽基、芘基、咔唑基、或由下述式(d-1)或下述式(d-2)表示的基团，

式(c)中，n表示0或1；

式(d-1)、式(d-2)中，n表示0或1。

3.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物还具有由下述式(2)表示的结构单元，

式(2)中，X¹与权利要求1中记载的定义含义相同，R³表示苯基、萘基、蒽基、芘基、噻吩基或吡啶基，R⁴表示氢原子、苯基或萘基，R³和R⁴分别表示苯基时，R³和R⁴可以与它们结合的同一碳原子一起形成芴环。

4.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，还包含表面活性剂。

5.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，还包含交联剂。

6.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，还包含酸性化合物和/或产酸剂。