[发明专利]基于同时真空蒸发工艺的CZTSE光吸收层制造方法有效
申请号: | 201480021343.4 | 申请日: | 2014-04-17 |
公开(公告)号: | CN105340081B | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 郭智惠;尹载浩;安承奎;申基植;安世镇;赵阿拉;尹庆勋;鱼英柱;赵俊植;朴柱炯;柳镇洙;朴相炫;崔慧琳 | 申请(专利权)人: | 韩国ENERGY技术硏究院 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 | 代理人: | 朴云龙,刘继富 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 同时 真空 蒸发 工艺 cztse 光吸收 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种制造CZTSe太阳能电池的光吸收层的方法,更具体地说,涉及一种通过同时真空蒸发工艺来制造CZTSe太阳能电池的光吸收层的方法。
背景技术
近年来,随着硅的供应不足而使其价格暴涨,能够替代硅太阳能电池的薄膜型太阳能电池越来越受到关注。薄膜型太阳能电池的厚度能够制作得薄,因此不仅材料的消耗量少、重量轻,而且其应用范围也很广。
作为这种薄膜型太阳能电池的材料,正在活跃地进行对非晶硅和CdTe、CIS类(CuInSe2、CuIn1-xGaxSe2、CuIn1-x GaxS2等)的研究。
CIS类薄膜是I-III-IV族化合物半导体中的一种,其中,CIGS太阳能电池在实验室中制作的薄膜太阳能电池中保持着转换效率(大约20.4%)最高的纪录。特别是,能够制作成2~3微米以内的厚度,在长时间使用时也具有稳定的特性,因此有望成为能够替代硅的廉价的高效率太阳能电池。但是,其中使用的In是相对储量少的稀有元素,其价格根据在显示器产业中使用的ITO材料的需求而不稳定,因此成为批量生产的障碍。
为了克服这个问题并利用于廉价太阳能电池的开发,作为CIGS薄膜材料的替代方案,正在活跃地进行对将稀有元素In和Ga替换为常用元素Zn和Sn的CZTS类(Cu2ZnSn(SxSe1-x)4)化合物半导体的研究。
近年来,相关研究非常活跃,从2009年起呈现研究论文数急剧增加的趋势,至今为止已有通过基于溅射法的2步骤工艺来达到3.2%的CZTSe(Cu2ZnSnSe4)太阳能电池效率和6.7%的CZTS(Cu2ZnSnS4)太阳能电池效率的报告(参考文献[Appl.Phys.Express 1,2008,041201,H.Katagiri et al.;Prog.Photovolt:Res.Appl.2009;17:315-319,G.Zoppi et al.]等),最近又有利用非真空方式制造的CZTSSe(Cu2ZnSn(S,Se)4)太阳能电池产生了11.1%的转换效率而刷新了世界最高纪录(参考文献[Prog.Photovolt:Res.Appl.20(2012)6,D.A.R.Barkhouse et al.]等)。相反,尽管利用同时真空蒸发法的Cu-Zn-Sn-Se类研究具有薄膜组成调节相对容易的优点,但是所公开的研究结果相对较少,关于其效率的报告更是寥寥无几。
根据参考文献(Thin Solid Films(2012)in press,http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.10.082),当利用使4种元素同时进行真空蒸发来进行蒸镀的以往的CZTSe制造方法时,虽然Sn的损失在200℃至400℃并不大,但是在400℃以上会迅速产生Sn的损失,因此在Cu-Zn-Sn-Se类薄膜制造工艺中难以应用薄膜生长所需的高温的基板温度。这样的Sn损失起因于在同时真空蒸发工艺中Sn与Se相遇、蒸发而无法蒸镀,其结果是,成为相分离和厚度减小的原因而在用作太阳能电池薄膜时使能量转换效率降低。因此,为了最小化由Sn损失造成的能量转换效率的降低,有必要对同时真空蒸发工艺的步骤进行最优化。
因此,发明了如下技术(大韩民国公开专利10-2013-0016528),即,为了提高制造效率而使用真空蒸发法,并且首先依次蒸镀其它元素,然后进行硒化处理或硫化处理,但是,该技术在进行蒸镀时基板温度较低,与本发明的工艺仍有差异。
现有技术文献
1.大韩民国公开专利10-2013-0016528;
2.Appl.Phys.Express 1,2008,041201,H.Katagiri et al.;Prog.Photovolt:Res.Appl.2009;17:315-319,G.Zoppi et al.;
3.Prog.Photovolt:Res.Appl.20(2012)6,D.A.R.Barkhouse et al.;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的