[发明专利]含Au碘系蚀刻液的处理方法以及处理装置有效

专利信息
申请号: 201480021400.9 申请日: 2014-05-20
公开(公告)号: CN105164317B 公开(公告)日: 2016-11-02
发明(设计)人: 古坚千绘;小久保広宣 申请(专利权)人: 朝日浦力环境科技有限公司
主分类号: C23F1/46 分类号: C23F1/46;C25C1/00;C25C1/20
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 刘兵;严政
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: au 蚀刻 处理 方法 以及 装置
【权利要求书】:

1.一种含Au碘系蚀刻液的处理方法,该方法为通过电解回收含Au碘系蚀刻液中的Au,并且恢复碘(I3-)浓度的蚀刻液的处理方法,其特征在于,

所述电解在将阴极电位维持在-0.7V以上(基准电位为参照电极Ag/AgCl时)、以及将阳极电位维持在+1.0V以下(基准电位为参照电极Ag/AgCl时)下进行。

2.根据权利要求1所述的处理方法,其中,所述电解是阴极和阳极被隔膜隔开的隔膜电解。

3.根据权利要求2所述的处理方法,其中,所述隔膜电解是从所述含Au碘系蚀刻液的供给源向被所述隔膜隔开了的阴极侧连续地供给所述含Au碘系蚀刻液并回收Au后,向被所述隔膜隔开了的阳极侧供给,使碘(I3-)浓度恢复的方法,

将被所述隔膜隔开了的阴极侧的碘调整到不产生在阴极析出的Au的再溶解的浓度范围。

4.根据权利要求3所述的处理方法,其中,使向被所述隔膜隔开了的阴极侧供给的含Au碘系蚀刻液的供给量以满足下述式(1)的方式进行调整,

电流(A(安培))>I3-浓度A×供给量B×F…(1)

(式中,

I3-浓度A:向阴极侧供给的含Au碘系蚀刻液的碘(I3-)浓度(mol/L)、

供给量B:含Au碘系蚀刻液向阴极侧的供给量(L/sec)、

F:法拉第常数(A(安培)·sec/mol))。

5.一种含Au碘系蚀刻液的处理装置,该装置为用于通过电解回收含Au碘系蚀刻液中的Au、并且恢复碘(I3-)浓度的装置,其特征在于,该装置包括:

电解用的阴极以及阳极;

作为所述阴极或者所述阳极的电极电位的基准的参照电极;以及

基于利用所述参照电极测定的电位,以使设置所述参照电极的一侧的电极电位在规定范围的方式来控制电流或者电极间电压的电源,

未设置所述参照电极的一侧的电极具有调整电极电位为规定范围的物理单元。

6.根据权利要求5所述的含Au碘系蚀刻液的处理装置,其中,所述物理单元为调整未设置所述参照电极的一侧的电极和液体的接触面积的单元。

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