[发明专利]用于处理工件的机组

权利要求书

1.一种用于在过程腔中处理工件(28)的机组(10)，所述机组

具有构造在所述过程腔(14)中的用于以液体流体处理定位在第一处理位置中的工件(28)的第一处理站(50)，并且

具有布置在所述过程腔中的用于工件(28)的操作装置(16)，

其特征在于，

所述过程腔(14)是流体密封的，并且具有能流体密封地封闭的开口(62)，并且

所述操作装置(16)具有在所述过程腔(14)中固定的或者在所述过程腔(14)中以能直线运动的方式布置的基座(18)，并且具有铰接在所述基座(18)上、能围绕第一水平枢转轴线(30)运动的承载臂(20)，所述承载臂带有铰接在所述承载臂(20)上的、能围绕另一水平枢转轴线(32)枢转运动的枢转臂(22)，在所述枢转臂上构造出带有工件保持架(26)的接收部(24)，以穿过所述能流体密封地封闭的开口(62)将在布置于所述过程腔(14)之外的工件供给部(12)上提供的工件(28)接收到所述过程腔(14)中，通过所述操作装置能够将在工件供给部(12)上提供的工件(28)在所述过程腔(14)中运动到第一处理站(50)中的第一处理位置中。

2.根据权利要求1所述的机组，其特征在于具有至少一个布置在所述过程腔(14)中的、与所述第一处理站(50)相间隔的第二处理站(54)，所述第二处理站用于以流体处理定位在第二处理位置中的工件(28)，其中，通过所述承载臂(20)围绕所述第一枢转轴线(30)的枢转，所述操作装置(16)能够将接收在所述工件保持架(26)上的工件(27)由所述第一处理站(50)中的第一处理位置(52)运动到所述第二处理站(54)中的第二处理位置(56)中。

3.根据权利要求2所述的机组，其特征在于，接收在所述操作装置(16)上的工件到所述第一处理位置(52)中和所述第二处理位置(56)中的竖直平面上的垂直投影处在与所述第一枢转轴线(30)同心的圆环的圆环扇区(60)内。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的机组，其特征在于，所述操作装置(16)具有能围绕处在被所述另一枢转轴线(32)贯穿的平面中的转动轴线(44)运动的接收部(24)，所述接收部具有用于接收工件(28)的工件保持架(26)。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的机组，其特征在于，所述第一处理站(50)被设计成用于冲洗工件(28)和/或用于给工件(28)去毛刺。

6.根据权利要求2至3中任意一项所述的机组，其特征在于，所述第二处理站(54)被设计成用于冲洗工件(28)和/或用于给工件(28)去毛刺和/或用于干燥工件。

7.根据权利要求5所述的机组，其特征在于，所述操作装置(16)具有能以阻隔空气加载的结构组件，以便阻止流体侵入所述操作装置的空腔和铰接区段中。

8.根据权利要求6所述的机组，其特征在于，所述操作装置(16)具有能以阻隔空气加载的结构组件，以便阻止流体侵入所述操作装置的空腔和铰接区段中。

9.根据权利要求1至3中任意一项所述的机组，其特征在于具有敷设在所述操作装置(16)的运动臂内部的电的和气动的供应线路。

10.根据权利要求1至3中任意一项所述的机组，其特征在于，所述操作装置(16)具有由化学上惰性的并且耐温的材料制成的结构组件。

11.根据权利要求1至3中任意一项所述的机组，其特征在于，所述操作装置(16)包含由CFK材料制成的结构组件。

12.根据权利要求1至3中任意一项所述的机组，其特征在于，所述操作装置(16)包含密封体，所述密封体能够暴露于高温和侵蚀性介质中。

13.根据权利要求2至3中任意一项所述的机组，其特征在于具有至少部分地覆盖所述操作装置(316)的柔性的保护套(311)，所述保护套针对在所述第一处理站(350)和/或所述第二处理站(354)中使用的用于处理工件(328)的流体是具有介质耐抗性的。

14.根据权利要求1至3中任意一项所述的机组，其特征在于，为了补偿所述第一枢转轴线(130)中的负载转矩，在能运动的承载臂(120)上联接有配重件(131)。