[发明专利]形成掩模的可成像材料和使用它制备浮凸图像的方法

说明书

可成像材料可用于形成提供浮凸图像的掩模图像。该可成像材料具有简化的结构并且基本上由以下按序构成：透明聚合物载体片和包含第一红外辐射吸收化合物的阻隔层。在所述透明聚合物载体片或所述阻隔层内提供第一紫外辐射吸收化合物。将非卤化银热敏可成像层置于所述阻隔层上并且所述可成像层包含第二红外辐射吸收化合物和第二紫外辐射吸收化合物。通过以下步骤来形成浮凸图像,使所述可成像材料成像以形成成像的掩模材料，通过成像的掩模材料用固化辐射曝光凸版形成材料以形成曝光区域和非曝光区域，并且通过去除它的非曝光区域使成像的凸版形成材料显影以形成浮凸图像。

发明领域

本发明涉及可热成像以提供成像掩模材料的可成像材料，所述成像掩模材料继而可用于提供例如在柔性版印刷版中的浮凸图像。本发明还提供使用成像掩模材料形成浮凸图像的方法。

发明背景

具有合适的凸版形成材料或层的辐射敏感的凸版形成材料在本领域是已知的。制备并使用掩蔽膜以提供这类材料的浮凸图像的技术上的重要进步描述在美国专利申请公开2005/0227182 (Ali等人，下文将其引用为US ‘182)。例如，该公开描述了有用的材料和使用形成热敏掩模的可成像材料提供具有合适的浮凸图像的柔性版印刷版的方法。

因此，可生产浮凸图像用于产生掩模，例如通过热敏成像合适的掩蔽膜或元件以提供期望的图案(通常使用在电脑控制下的红外辐射激光)，通过它进行光固化元件成像（通常使用紫外辐射）。例如，US ‘182描述了形成成像掩模材料的方法。

例如，将成像的掩模材料置于与凸版形成材料相接触并且经受使用光化辐射的整体曝光(例如，UV辐射)以使在未掩蔽的区域内的凸版形成材料固化和由此在凸版形成材料中形成成像的掩模材料的阴图像。随后可去除成像的掩模材料并且可使用显影方法去除在凸版形成材料上的未固化区域。在干燥后，所得的成像的凸版形成材料具有可用于合适的印刷操作的浮凸图像。

可成像材料的进步描述在美国专利7,799,504 (Zwadlo等人)中用于制备成像的掩模材料。这些可成像材料具有至少5个层涂布在透明基片上。

在具有浮凸图像的材料例如柔性版印刷板中，高亮网点保留和反向线深度（RLD）的组合定义了成像系统的曝光宽容度。高亮网点保留对于足够高分辨率印刷是重要的和足够的反向线深度对于提供清楚的线条图像在所产生的印刷压印中的良好分离（无光晕）是重要的。通常情况下，随着凸版形成材料通过可成像材料（掩模）的增加曝光，高亮保留得以增加，而反向线深度减小。

期望使用显著更简单的设计用于这类可成像材料，其用于形成掩模，所述掩模可用于提供出色的反向线深度，而不损害高亮网点保留。

发明内容

为了满足该技术需求，本发明提供基本上由以下按序组成的可成像材料：

(a)透明的聚合物载体片，

(b)直接置于透明聚合物载体片上的阻隔层，所述阻隔层包含第一红外辐射吸收化合物，

其中所述透明聚合物载体片和阻隔层中的任一个或两者进一步包含第一紫外辐射吸收化合物，和

(c)直接置于所述阻隔层上的非卤化银热敏可成像层，所述非卤化银热敏可成像层包含第二红外辐射吸收化合物和第二紫外辐射吸收化合物，两者均分散于聚合物粘合剂内。

此外，本发明还提供制备浮凸图像的方法，所述方法包括：

使本发明实施方案中的任一项的可成像材料成像以形成成像的掩模 材料,

当它们与光充分接触时，用通过成像的掩模材料的固化辐射使凸版形成材料曝光，以形成具有曝光区域和非曝光区域的成像的凸版形成材料，和

通过去除它的非曝光区域使成像的凸版形成材料显影从而形成浮凸图像。