[发明专利]无碱玻璃基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及适合作为各种显示器用基板玻璃的、实质上不含有碱金属氧化物、容易成形为板状、且抑制了紫外线透射率的面内分布的无碱玻璃基板。

背景技术

以往，对于各种显示器用基板玻璃、特别是在表面形成金属或氧化物薄膜等的玻璃而言，含有碱金属氧化物时，碱金属离子扩散到薄膜中使得膜特性劣化，因此要求其为实质上不含有碱金属离子的无碱玻璃。

在制造以液晶显示装置(LCD)为代表的平板显示器(FPD)时，使用固化性树脂将构成该FPD的两片基板玻璃(LCD的情况下，设置有TFT元件的基板玻璃与设置有滤色片的基板玻璃)贴合。

此时，FPD中存在TFT元件等耐热性成为问题的构成要素，因此使用光固化性树脂作为固化性树脂，通过紫外线照射使树脂固化。因此，要求显示器用基板玻璃具有紫外线透射性，在专利文献1和2中，提出了300nm的紫外线透射率在厚度为0.5mm情况下为50％～85％的无碱玻璃基板。

对于显示器用基板玻璃而言，除了紫外线透射率为期望的范围，还优选紫外线透射率在显示器用基板玻璃的整个面上是均匀的、即紫外线透射率的面内分布小。例如，存在如下所述的聚合物取向稳定化(Polymer Stabilized Alignment；以下称为“PSA”)技术(参见专利文献3)，即：向填充在LCD的液晶层中的液晶材料中添加光聚合性单体，在使液晶分子向规定方向倾斜的状态下进行光照射从而在取向膜附近形成聚合物，由此使液晶材料的分子取向稳定化。为了应对该技术，对于显示器用基板玻璃而言，要求紫外线透射率的面内分布小。显示器用基板玻璃的紫外线透射率的面内分布大时，需要根据显示器用基板玻璃的部位来改变紫外线的照射条件，从而液晶显示面板的成品率降低。

另外，在LCD、有机EL显示装置(OLED)、特别是手提电话、手机等便携式显示装置的领域中，显示装置的轻量化、薄型化成为重要课题。为了应对该课题，期望进一步减小在显示装置中使用的显示器用基板玻璃的板厚。作为减小板厚的方法，通常进行如下方法：在基板玻璃的表面形成显示装置用构件之前或形成之后，使用氢氟酸等对基板玻璃进行蚀刻处理，并根据需要进一步进行物理研磨而变薄。

但是，在基板玻璃的表面形成显示装置用构件之前进行蚀刻处理等而使基板玻璃变薄时，基板玻璃的强度降低，挠曲量也增大。因此，出现了利用现有的生产线不能进行处理这样的问题。

另外，在基板玻璃的表面形成显示装置用构件之后进行蚀刻处理等而使基板玻璃变薄时，在基板玻璃的表面形成显示装置用构件的过程中，出现了在基板的玻璃表面上形成的微细的裂纹变得明显这样的问题、即出现了产生边缘凹坑(エッジピット)这样的问题。

因此，以解决这样的问题为目的，提出了下述方法等：将板厚薄的基板玻璃(薄板基板玻璃)与其他支撑基板玻璃贴合而制成层叠体，在这样的状态下实施用于制造显示装置的规定处理，然后使薄板基板玻璃与支撑基板玻璃分离(参见专利文献4)。

作为使薄板基板玻璃与支撑基板玻璃分离的方法，如专利文献5中记载的方法那样，也能够应用对基板表面扫描照射激光束的方法。

为了应对该技术，对于显示器用基板玻璃而言，要求光线透射率的面内分布小。显示器用基板玻璃的光线透射率的面内分布大时，需要根据显示器用基板玻璃的部位来改变激光束的照射条件，从而显示装置的成品率降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-36625号公报

专利文献2：日本特开2006-36626号公报

专利文献3：日本特开2009-53544号公报

专利文献4：日本特开2009-184172号公报

专利文献5：日本特开2012-104093号公报

发明内容

发明所要解决的问题

近年来，对于像智能手机那样的便携式终端等高精细小型显示器而言，作为高品质的p-Si TFT的制造方法，采用利用激光退火的方法，为了进一步减小收缩率，要求应变点高的玻璃。另外，随着玻璃基板的大板化、薄板化，为了抑制运送时的玻璃基板的挠曲，要求杨氏模量高、比模量(杨氏模量/密度)高的玻璃。本发明的目的在于提供一种可解决上述缺点、紫外线透射率高、紫外线透射率的面内分布小、应变点高、杨氏模量高、且在基板制造时容易成形为板状的无碱玻璃基板。

用于解决问题的手段