[发明专利]转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置在审

专利信息
申请号: 201480022977.1 申请日: 2014-04-23
公开(公告)号: CN105142925A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 并河均 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B44C1/17 分类号: B44C1/17;B32B27/00;G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 材料 带有 转印层 基材 触摸屏 它们 制造 方法 信息 显示装置
【权利要求书】:

1.一种转印材料,其特征在于:依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜,

在自所述转印材料剥下所述保护膜的情况下,所述保护膜自所述转印层剥离,且所述转印层残留于所述剥离层侧,

在将所述转印层转印至包含玻璃的被转印基材、或包含选自三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或环烯烃聚合物的膜的被转印基材上之后,剥下所述临时支撑体的情况下,所述剥离层与所述临时支撑体一同剥离。

2.根据权利要求1所述的转印材料,其中,自所述转印材料剥下所述保护膜时的所述保护膜与所述转印层间的剥离力是10mN/m~200mN/m。

3.根据权利要求1或2所述的转印材料,其中,自转印至所述被转印基材上的所述转印层剥离所述剥离层及所述临时支撑体的层叠体时的剥离力为40mN/m~400mN/m。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印材料,其中,所述剥离层包含消光剂,所述消光剂自所述剥离层隆起150nm~500nm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印材料,其中,所述剥离层包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物、硅酮树脂、及烯烃树脂的聚合物。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印材料,其中,所述剥离层包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物及烯烃树脂的聚合物。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层包含至少一层以上,

所述转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层包含至少两层,

所述转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种,

所述转印层中的其他层包含粘合树脂。

9.根据权利要求7或8所述的转印材料,其中,所述转印层中的至少一层中所含的所述粘合树脂具有硅氧烷键。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层中的至少一层包含选自黑色颜料、黑色染料、及白色颜料的至少一种颜料或染料作为所述颜料或染料。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层包含至少两层,

所述转印层中的与所述剥离层邻接的层包含至少一种选自黑色颜料及黑色染料的颜料或染料,

所述转印层中的与所述保护膜邻接的层包含白色颜料。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层包含至少两层,

所述转印层中,越是所述剥离层侧的层光学密度越大。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层包含至少两层,

所述转印层中的与所述剥离层邻接的层的光学密度为1.0~6.0。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层包含至少两层,

所述转印层中的与所述剥离层邻接的层的膜厚为0.5μm~3.0μm。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的转印材料,其中,所述转印层包含至少两层,

所述转印层中的与所述保护膜层邻接的层的膜厚为5.0μm~50.0μm。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的转印材料,其中,所述临时支撑体包含选自聚酯树脂、三酰基纤维素树脂、及环烯烃树脂的树脂。

17.根据权利要求1至16中任一项所述的转印材料,其中,所述保护膜是聚烯烃膜。

18.根据权利要求1至17中任一项所述的转印材料,其中,所述被转印基材包含玻璃。

19.根据权利要求1至17中任一项所述的转印材料,其中,所述被转印基材包含环烯烃聚合物膜。

20.一种转印材料的制造方法,其是根据权利要求1至19中任一项所述的转印材料的制造方法,包含以下的(1)~(3)的步骤:

(1)准备具有所述剥离层的所述临时支撑体;

(2)在所述临时支撑体的所述剥离层侧形成所述转印层;

(3)在所述转印层侧贴合所述保护膜。

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