[发明专利]具有单晶磷光体的白光发光二极管和生产的方法在审
申请号: | 201480023021.3 | 申请日: | 2014-04-22 |
公开(公告)号: | CN105189698A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 扬·库柏特;金得里希·胡兹维卡;扬·波莱克 | 申请(专利权)人: | 克莱托斯波尔公司 |
主分类号: | C09K11/77 | 分类号: | C09K11/77 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 刘莉婕;缑正 |
地址: | 捷克图*** | 国省代码: | 捷克;CZ |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 磷光体 白光 发光二极管 生产 方法 | ||
1.一种白光发光二极管,具有置于选自InGaN、GaN或AlGaN组的芯片上的单晶磷光体,其中所述单晶磷光体(21)产生自基于掺杂有选自Ce3+、Ti3+、Cr3+、Eu2+、Sm2+、B3+、C、Gd3+或Ga3+组的原子的LuYAG和/或YAP和/或GGAG的主体的单晶铸锭(51),所述单晶铸锭(51)用选自Czochralski、HEM、Badgasarov、Kyropoulos或EFG组的方法自熔融物生长。
2.根据权利要求1所述的二极管,其中所述单晶磷光体(21)基于相应于化学式(Lux,Y1-x)3Al5O12的主体,其中X是0.01高至0.99,或掺杂有Ce3+、Ti3+、Cr3+、Eu2+、Sm2+、B3+的YAlO3,此时Lu3+、Y3+和Al3+原子在所述主体中被B3+、Gd3+或Ga3+原子以0.1至99.9wt%的量代替。
3.根据权利要求1和2所述的二极管,其中所述单晶磷光体(21)中的Ce3+浓度范围从0.02高至0.5wt%和/或Sm2+浓度范围从0.01高至0.3wt%和/或Eu2+浓度范围从0.001高至1wt%和/或Ti3+浓度范围从0.05高至5wt%和/或Cr3+浓度范围从0.01高至2wt%。
4.根据权利要求1至3所述的二极管,其中所述单晶磷光体(21)含有在氧空位上的具有在410nm和615nm处发射峰的诱导色中心。
5.根据权利要求1至3所述的二极管,其中所述单晶磷光体(21)设置有来自(Lu,Y)3Al5O12、Y3Al5O12、YAlO3或Al2O3组的铝酸盐基上的掺杂有稀土的最少一个更多层的互补磷光体(24)。
6.根据权利要求1至3所述的二极管,其中所述单晶磷光体(21)用主要由(Lu,Y)3Al5O12:Ce3+组成的具有0.01至0.5wt%Ce3+浓度的最少一个层和主要由YAlO3:Ti3+组成的具有0.1至5wt%Ti3+浓度的最少一个更多层来产生。
7.一种生产根据权利要求1至6所述的单晶二极管磷光体的方法,其中将所述单晶铸锭(51)用装有金刚石的锯切割为具有0.2至2mm厚度的单晶板坯(52),所述单晶板坯(52)随后用金刚石圆盘锯或脉冲激光器、具有磨蚀剂的水射流或它们的组合切割为具有1至5mm外部边长的所述单晶磷光体(21)的单个板(21.1)并且在所述芯片与金或银丝(18)电接触的位点设置有沟槽或切口。
8.一种生产根据权利要求1至6所述的单晶二极管磷光体的方法,其中所述单晶铸锭(51)被切割为具有1.5至10mm的边长的单晶立方体(53),所述单晶立方体(53)随后加工为具有0.5至5mm的半径的球形盖子(21.2)的形状并且至少部分定位在所述半导体芯片(13)上。
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