[发明专利]银-铋粉末、导电性糊剂及导电膜有效
申请号: | 201480023351.2 | 申请日: | 2014-03-27 |
公开(公告)号: | CN105142824B | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 尾木孝造;井上健一;江原厚志;浅野彰宏;藤本英幸;山田雄大 | 申请(专利权)人: | 同和电子科技有限公司 |
主分类号: | B22F1/00 | 分类号: | B22F1/00;B22F7/04;B22F9/08;C22C5/06;C22C12/00;H01B1/00;H01B1/22;H01B5/00;H01B5/14;H05K1/09 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 聂宁乐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铋粉末 激光衍射式粒度 导电性糊剂 分布测量 粒度分布 含氧量 导电膜 质量比 粒径 | ||
提供一种银‑铋粉末,含有银和铋,所述银和所述铋的质量比(银:铋)为95:5~40:60,通过激光衍射式粒度分布测量法所测定的,以体积为基准的粒度分布中累计50%的粒径(D50)为0.1μm~10μm,含氧量为5.5质量%以下。
技术领域
本发明关于银-铋粉末、导电糊剂及导电膜。
背景技术
目前,对铜作为布线材料和电极材料的使用进行了研究,被应用于在较低的温度(200℃以下)下硬化或干燥的布线板用途等的导电性糊剂中。然而,在较高的温度(500℃以上) 下在烧制的用途中,由于引起铜的氧化、造成导电性低下,因此,不能在氧化气氛中使用,只能适用于氮气气氛或还原性气氛等的特殊气氛下。因此,在较高温度的氧化气氛下的烧制用途中多使用银,银与铜相比,由于成本高,导致成本升高等问题。此外,针对铜和银之间的特性及成本,探讨了使用镀银铜粉末,虽然较铜相比改善了耐氧化性,但是仍然存在不能用于较高温度的氧化气氛下的烧制用途中的问题。
为解决上述问题,例如,提出了含有银及至少两种非银含有元素的多元素合金粉末(参考专利文献1)。然而,由于该提案是用于陶瓷压电装置用的合金粉末用途,再加上含有钯或铂等贵金属而具有高熔点,因此其制备方法为气溶胶分解方法,造成生产性差、难以降低成本的问题。
此外,提出了由基于铋的合金所组成的无铅焊料(参考专利文献2)。然而,该提案中,由于并非有意用于较高温度下的烧制用途,而且铋含量为80质量%以上之多,因此,用于在较高温度的氧化气氛下的烧制用途中,存在导电性降低的问题。
此外,提出了一种由含Ag和/或Cu总量为20质量%以上80质量%以下、其余为Bi及不可避免的杂质组成,是粒径为0.03mm以上0.5mm以下的球状的凝固而成的布线基板用的金属球,该金属球的圆度为粒径的5%以下(参考对比文件3)。然而,该提案中,由于金属球的粒径大,存在不能作为导电性糊剂的填料而使用的问题。
因此,希望提供一种焊料润湿性良好、体积电阻率低的、即使用于较高温度(500℃以上)的氧化气氛下的烧制用途也具有优良的导电性的银-铋粉末、导电性糊剂及导电膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特表2011-514432号公报
专利文献2:特表2004-528992号公报
专利文献3:特开2010-123681号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明,解决现有的上述各问题,以达成以下目的作为课题。即,本发明目的在于提供一种焊料润湿性良好、体积电阻率低的、即使用于较高温度(500℃以上)的氧化气氛下的烧制用途也具有优良的导电性的银-铋粉末、导电性糊剂及导电膜。
解决技术问题的手段
作为解决上述课题的方法,本发明的银-铋粉末为含有银和铋,所述银和所述铋的质量比(银:铋)为95:5~40:60,通过激光衍射式粒度分布测量法所测定的,以体积为基准的粒度分布中累计50%的粒径(D50)为0.1μm~10μm,含氧量为5.5质量%以下。
发明效果
通过本发明,能够解决现有的上述各问题,达成上述目的,可提供一种焊料润湿性良好、体积电阻率低的、即使用于较高温度(500℃以上)的氧化气氛下的烧制用途也具有优良的导电性的银-铋粉末、导电性糊剂及导电膜。
附图说明
图1是表示实施例中粉末中银的质量比与体积电阻率的关系的图表。
图2是表示实施例中粉末中银的质量比与焊料润湿性的关系的图表。
具体实施方式
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