[发明专利]吸收性灯头面

权利要求书

1.一种处理腔室，包括：

第一结构；

第二结构；

基座环，所述基座环将所述第一结构连接至所述第二结构；

基板支撑座，所述基板支撑座设置于所述第一结构与所述第二结构之间；

辐射源结构，所述辐射源结构被定位成邻近于所述第二结构且具有形成于所述辐射源结构内的一个或更多个辐射源位置，所述辐射源结构包含邻近于所述第二结构的第一表面，其中所述第一表面包含吸收性涂层，并且所述第二结构设置于所述辐射源结构与所述基板支撑座之间；以及

一个或更多个辐射源，每一个辐射源位于所述辐射源位置之一。

2.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述吸收性涂层为炭黑涂层。

3.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述辐射源的每一个为灯泡，所述灯泡包含白炽灯丝、含有辐射气体的灯泡，或固态辐射源。

4.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述辐射源结构包含铜或铝，并且受水冷却。

5.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述辐射源结构具有粘附性增强构造。

6.如权利要求1所述的处理腔室，进一步包含：

反射器，所述反射器具有反射表面，所述反射表面设置于所述第一结构之上，其中所述反射器具有吸收性涂层，所述吸收性涂层设置于所述反射表面的至少一部分的上方。

7.一种用于加热基板的处理腔室，包括：

基板支撑座，所述基板支撑座设置于所述处理腔室之内以用于支撑基板，所述基板支撑座具有第一支撑表面以用于接触基板且具有正对于所述第一支撑表面的第二支撑表面；

第二结构，所述第二结构设置成邻近于所述第二支撑表面；

辐射源结构，所述辐射源结构定位成邻近于所述第二结构且具有形成于所述辐射源结构内的一个或更多个辐射源位置，所述辐射源结构包含邻近于所述第二结构的第一表面，所述第一表面包含吸收性涂层，并且所述第二结构设置于所述辐射源结构与所述基板支撑座之间；

灯泡组件，所述灯泡组件包含辐射产生源；

第一结构，所述第一结构正对于所述第二结构；以及

基座环，所述基座环设置于所述第一结构与所述第二结构之间，其中所述第二结构、所述基座环，以及所述第一结构一般性地界定出所述处理腔室的处理区域。

8.如权利要求7所述的处理腔室，其中所述第一结构、所述第二结构或上述二者的组合为圆顶形。

9.如权利要求7所述的处理腔室，其中所述辐射产生源的每一个为灯泡，所述灯泡包含白炽灯丝、含有辐射气体的灯泡，或固态辐射源。

10.如权利要求7所述的处理腔室，其中所述辐射源结构包含铜或铝，并且受水冷却。

11.如权利要求7所述的处理腔室，其中所述辐射源结构具有粘附性增强构造。

12.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述粘附性增强构造为底层涂料。

13.如权利要求7所述的处理腔室，进一步包含反射器，所述反射器具有反射表面，所述反射表面设置成邻近于所述第一结构，其中所述反射器具有吸收性涂层，所述吸收性涂层设置于所述反射表面的至少一部分的上方。