[发明专利]含可光机械加工层的熔合拉制的玻璃层叠结构的机械加工

权利要求书

1.一种对玻璃结构进行机械加工的方法，

所述玻璃结构包括熔合拉制层叠体，该熔合拉制层叠体具有插入第一包覆层和第二包覆层之间的芯层；

所述芯层由具有非零芯光敏度的芯玻璃组合物形成；

所述第一包覆层由具有第一包覆光敏度的第一包覆玻璃组合物形成，所述第一包覆光敏度不同于所述芯光敏度；

所述第二包覆层由具有第二包覆光敏度的第二包覆玻璃组合物形成，所述第二包覆光敏度不同于所述芯光敏度；以及

所述芯层、第一包覆层和第二包覆层中的至少一个是可光机械加工层，

所述方法包括：

将所述熔合拉制层叠体中的至少一层可光机械加工层的至少一个选定区域暴露于紫外辐射，持续一段预定的暴露时间；

加热所述玻璃结构直至所述可光机械加工层中的所述至少一个选定区域形成结晶材料的结晶区域；以及

从所述可光机械加工层选择性地去除所述结晶区域。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：

所述芯层、第一包覆层和第二包覆层分别是可光机械加工层；以及

所述第一包覆光敏度和第二包覆光敏度都大于所述芯光敏度。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：

将所述第一包覆层的第一组多个选定区域和所述第二包覆层的第二组多个选定区域暴露于所述紫外辐射；以及

在所述加热过程中，所述第一包覆层中的所述第一组多个选定区域形成结晶区域，所述第二包覆层中的所述第二组多个选定区域形成结晶区域。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，通过至少一个具有孔的光掩模进行所述暴露，所述孔限定了所述第一组多个选定区域和/或所述第二组多个选定区域。

5.如权利要求4所述的方法，该方法还包括：

在加热所述玻璃结构之后以及在去除所述结晶区域之前，将所述玻璃结构第二次暴露于紫外辐射，使得第一部分的所述芯层得到所述结晶区域的遮蔽免受所述紫外辐射，第二部分的所述芯层没有得到遮蔽免受所述紫外辐射；以及

加热所述玻璃结构直至所述芯层的未遮蔽部分发生结晶。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在将所述玻璃结构第二次暴露于紫外辐射之后以及在加热所述玻璃结构直至所述芯层的未遮蔽部分发生结晶之前，去除所述结晶区域。

7.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一组多个选定区域和所述第二组多个选定区域垂直对准，所述方法还包括去除所述芯层在所述第一组多个选定区域和所述第二组多个选定区域之间的部分，以形成通过所述玻璃结构的通孔。

8.如权利要求4所述的方法，其特征在于，去除所述结晶区域在所述第一包覆层和/或所述第二包覆层中形成孔结构。

9.如权利要求8所述的方法，该方法还包括：

在加热所述玻璃结构以及去除所述结晶区域之后，将所述玻璃结构第二次通过具有孔的光掩模暴露于紫外辐射，所述孔与所述孔结构对准并且小于孔结构；以及

在该第二次暴露之后加热所述玻璃结构，直至所述芯层的至少一个结晶芯区域发生结晶。

10.如权利要求9所述的方法，该方法还包括去除所述结晶芯区域，以形成至少一个通孔，所述通孔从所述玻璃结构的相对侧上的孔结构延伸。

11.如权利要求8所述的方法，该方法还包括对所述第一包覆层、第二包覆层和孔结构的表面进行蚀刻，以在所述第一包覆层和第二包覆层上形成粗糙化的包覆表面以及在所述孔结构中形成粗糙化的孔表面。

12.如权利要求1所述的方法，该方法还包括在去除所述结晶区域之后，使得所述玻璃结构经受离子交换过程。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，使得所述玻璃结构经受离子交换过程包括使得所述离子交换过程至少持续至所述第一包覆层和第二包覆层在它们的整个厚度上是经离子交换的。

14.如权利要求12所述的方法，其特征在于，使得所述玻璃结构经受离子交换过程包括使得所述离子交换过程至少持续至形成毗邻的离子交换层，其包括部分所述第一包覆层、部分所述第二包覆层和部分所述芯层。

15.如权利要求14所述的方法，该方法还包括在破裂线处破裂所述玻璃结构，所述破裂线形成在所述芯层的经离子交换的区域中。