[发明专利]低表面粗糙度的抛光垫有效
| 申请号： | 201480024087.4 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN105163907B | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | J.奈尔 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 粗糙 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种抛光垫，其包含含有抛光表面的抛光垫体，其中该抛光垫体包含孔隙，且其中该抛光表面具有0.1微米至4微米的表面粗糙度，且该抛光表面包含开孔孔隙，其中该表面粗糙度是在排除该开孔孔隙的情况下测量的，且其中该抛光垫体包含热塑性聚氨酯，其中该抛光垫具有5MPa至600MPa的在30℃下的弹性储能模量。
2.如权利要求1所述的抛光垫，其中该抛光表面具有0.5微米至2微米的表面粗糙度。
3.如权利要求1所述的抛光垫，其中所述孔隙具有2微米至150微米的平均孔径。
4.如权利要求1所述的抛光垫，其中该抛光垫进一步包含垫基材。
5.如权利要求4所述的抛光垫，其中该抛光垫体具有与该抛光表面相反的非抛光表面，且其中该垫基材与该非抛光表面结合。
6.如权利要求1所述的抛光垫，其中该抛光垫进一步包含从该抛光表面延伸至与该抛光表面相反的表面的光学透射区域。
7.一种抛光基材的方法，该方法包括：
(i)提供待抛光的基材；
(ii)将该基材与权利要求1的抛光垫及抛光组合物接触；以及
(iii)将该基材相对于该抛光垫移动，其间有该抛光组合物，从而磨除该基材的至少一部分以抛光该基材。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉柏微电子材料股份公司，未经嘉柏微电子材料股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480024087.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于管理机器人激光单元中的激光加工参数的方法和装置
- 下一篇：节水型坐便器
