[发明专利]包含三氟乙烯的组合物在审
申请号: | 201480024255.X | 申请日: | 2014-04-25 |
公开(公告)号: | CN105164227A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 谷口智昭;冈本秀一;古田昇二;竹内优 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | C09K5/04 | 分类号: | C09K5/04;C09K3/00;C09K3/30 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨;刘多益 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 乙烯 组合 | ||
技术领域
本发明涉及包含三氟乙烯的组合物,特别涉及用作传热组合物的组合物。
背景技术
根据新的环境法规,冷藏、空调及热泵装置等中使用的新制冷剂是必需的,温室效应系数(GWP)低的化合物受到瞩目。
近年来,作为GWP低的化合物,三氟乙烯(HFO-1123)引人瞩目。在本说明书中,对于卤化烃,将其化合物的简称记在化合物名之后的括号内,但在本说明书根据需要使用其简称以代替化合物名。
HFO-1123一直以来被用于冷蔵及传热流体、气溶胶喷雾剂、发泡膨胀剂等的用途,但是近年来考虑希望将其用作GWP高的饱和HFC(氢氟碳)类的制冷剂的替代物质。
例如,专利文献1中,作为热循环系统中使用的工作介质,提出了包含HFO-1123的组合物。
但是,进一步要求一种包含HFO-1123且能用于各种用途的组合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:WO2012/157764号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
本发明的目的是提供一种含有具有低GWP的HFO-1123、且可用作传热组合物、气溶胶喷雾剂、发泡剂(日文:発泡剤)、起泡剂(日文:ブロー剤)、溶剂等的组合物。
解决技术问题所采用的技术方案
申请人在制备HFO-1123时,发现在所得的生成组合物中存在少量的除HFO-1123以外的特定化合物,从而完成了本发明。
本发明提供一种组合物,其包含三氟乙烯(HFO-1123)、和选自E-1,2-二氟乙烯(HFO-1132)、Z-1,2-二氟乙烯(HFO-1132)、1,1-二氟乙烯(HFO-1132a、VdF)、三氟氯乙烯(CFO-1113、CTFE)、1-氯-2,2-二氟乙烯(HCFO-1122)、E-1-氯-1,2-二氟乙烯(HCFO-1122a)、Z-1-氯-1,2-二氟乙烯(HCFO-1122a)、1,1,2-三氟乙烷(HFC-143)、以及甲烷的至少一种的第一化合物。
此外,本发明提供一种包含三氟乙烯的组合物的制造方法,该制造方法是通过三氟氯乙烯的气相氢还原反应来制造三氟乙烯的方法,其特征是,在钯催化剂存在下使三氟氯乙烯和氢在80℃以上反应,蒸馏所得的反应生成物,得到包含选自E-1,2-二氟乙烯、Z-1,2-二氟乙烯、三氟氯乙烯、1-氯-2,2-二氟乙烯及1,1-二氟乙烯的至少一种的化合物的三氟乙烯。
此外,本发明还提供一种包含三氟乙烯的组合物的制造方法,该制造方法是由氯二氟甲烷和氯氟甲烷的混合物、通过热介质存在下的伴随热分解的合成反应来制造三氟乙烯的方法,其特征是,在400~1200℃下进行反应,蒸馏所得的反应生成物,得到包含选自E-1,2-二氟乙烯、Z-1,2-二氟乙烯、1,1-二氟乙烯、三氟氯乙烯、四氟乙烯、氟乙烯、1,1,1-三氟乙烷、二氟甲烷、三氟甲烷及五氟乙烷的至少一种化合物的三氟乙烯。
发明效果
根据本发明的组合物,能够获得含有可期待代替温室效应气体1,1,1,2-四氟乙烷(HFC-134a)及R410A(二氟甲烷(HFC-32)和五氟乙烷(HFC-125)的质量比为1:1的混合介质)而作为低GWP的新型制冷剂使用的HFO-1123、且能用于各种用途的组合物。
具体实施方式
本发明的第1实施方式的组合物包含HFO-1123和第一化合物。第一化合物是选自HFO-1132、VdF、CTFE、HCFO-1122、HCFO-1122a、HFC-143、及甲烷的至少一种的化合物。该组合物中,所含有的上述的第一化合物的各自的含有比例优选相对于HFO-1123和该化合物的合计量为低于0.5质量%。此外,该组合物中所含有的第一化合物的总量的含有比例优选相对于HFO-1123和第一化合物总量的合计量为低于0.5质量%。此外,第一化合物总量的含量下限优选0.0001质量%。
如后所述,HFO-1123的制造可通过例如将(I)三氟氯乙烯(CTFE)(CFO-1113)在气相中氢还原的方法来进行。因此,在某些实施方式中,由将CTFE在气相中氢还原的方法得到的HFO-1123以外的化合物,与HFO-1123一起存在于所得的生成组合物中。此外,在某些实施方式中,在制造HFO-1123的原料CTFE中存在的杂质原样地存在于生成HFO-1123的反应中,并与HFO-1123一起存在于所得的生成组合物中。
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