[发明专利]制备在格氏偶联反应中具有高选择性的二烷基‑二卤代硅烷、二芳基‑二卤代硅烷、和烷基芳基‑二卤代硅烷的方法

权利要求书

1.一种制备在格氏偶联反应中具有高度选择性的二烷基-二卤代硅烷、二芳基-二卤代硅烷、或烷基芳基-二卤代硅烷的方法，所述方法包括以下步骤：

提供反应器，所述反应器选自柱塞流反应器(PFR)、连续管式反应器(CTR)、活塞流反应器，和串联连接的不止一个连续搅拌釜反应器(CSTR)中的一个；

在预定流速下向所述反应器提供烃溶剂流；

在预定流速下向所述反应器提供烷基-三卤代硅烷或芳基-三卤代硅烷流；

在预定流速下向所述反应器提供包含烷基-卤化镁或芳基-卤化镁的格氏试剂流；

使得所述溶剂流、烷基-三卤代硅烷或芳基-三卤代硅烷流、和格氏试剂流组合以形成组合反应物流；

其中所述溶剂流、烷基-三卤代硅烷或芳基-三卤代硅烷流、和所述格氏试剂流的所述流速被选为使得所述组合反应物流中的所述烷基-三卤代硅烷或芳基-三卤代硅烷与所述格氏试剂的所述质量比大于或等于1.5:1，而所述组合反应物流中的所述溶剂与所述格氏试剂的所述质量比大于或等于3:1；

使得所述组合反应物流在10℃至80℃的温度下反应以形成包含R₂SiX₂、R₃SiX、和盐的产物混合物，其中每个R独立地被选为烷基基团或芳基基团，X为卤素基团，并且所述产物混合物中的R₂SiX₂与R₃SiX的所述质量比大于7:1；以及

任选地，收集所述产物混合物。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应器为包括至少一个流体模块的PFR。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法还包括以下所述步骤：

在开始所述格氏反应之前测量所述反应器上的基准压降；

在所述格氏反应过程期间监测所述反应器上的所述压降；以及

将在所述格氏反应过程期间监测的所述反应器上的所述压降与所述基准压降相比以便确定所述压降的变化；

其中压降的所述变化提供了对于所述反应器被盐堵塞的程度的测量，所述盐已凝聚和沉降在所述反应器中或者已沉积在所述反应器中的壁上。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述方法还包括以下所述步骤：

停止所述格氏反应；

移除堵塞所述反应器的所述盐；以及

重新开始所述格氏反应。

5.根据权利要求4所述的方法，其中移除堵塞所述反应器的所述盐还包括以下所述步骤：

将所述反应器的所述堵塞部分与所述反应器的其余部分分离；

通过所述反应器的所述分离部分冲洗烃溶剂以移除烷基-三氯硅烷或芳基-三氯硅烷；

通过所述反应器的所述分离部分冲洗水，直到所有所述盐被移除；

通过所述反应器的所述分离部分冲洗醇以移除任何残留水；

通过所述反应器的所述分离部分再次冲洗所述烃溶剂以从所述分离部分吹扫所述醇；以及

重建所述反应器的所述分离部分与所述反应器的所述其余部分之间的接触。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述组合反应物流的流速基于所述反应器的尺寸来预定以使得所述组合反应物流留在所述反应器中的平均时间量小于30秒。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述组合反应物流在所述反应器中的所述停留时间小于20秒。

8.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中溶剂与格氏试剂的所述质量比大于5:1。

9.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中所述产物混合物中的R₂SiX₂与R₃SiX的所述质量比大于12:1。

10.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中所述格氏试剂流为包含分散在溶剂中的所述格氏试剂的溶液；

其中基于所述溶液的总重量计，存在于所述溶液中的格氏试剂的所述量小于75重量％。

11.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中所述溶剂为甲苯，所述格氏试剂为苯基氯化镁(PhMgCl)，所述烷基-三卤代硅烷或芳基-三卤代硅烷为甲基三氯硅烷(MeSiCl₃)；并且所形成的所述产物混合物包含PhMeSiCl₂、Ph₂MeSiCl、和MgCl₂。