[发明专利]热处理后对相同颜色产生高太阳光增益低发射率涂层的方法

权利要求书

1.一种用于制造热处理涂层物品的方法，所述方法包括：

将第一层形成在基底上，其中，所述第一层包括银，所述第一层作为红外线反射层；

将第二层形成在所述第一层上，其中，所述第二层包括镍、铌、钛、和氧，在所述第二层上所述氧的含量在10到30％之间，所述第二层作为阻挡层；

将第三层形成在所述第二层上，其中，所述第三层包括锌、锡和氧，所述第三层作为隔离层；

将第四层形成在所述第三层，其中，所述第四层包括银，所述第四层作为红外线反射层。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述第二层的所述厚度在1到5毫微米之间。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述第三层包括Zn₂SnO_x，且所述第三层的所述厚度在50到100毫微米之间。

4.一种用于制造热处理涂层物品的方法，所述方法包括：

将第一层形成在基底上，其中，所述第一层包括锌、锡和氧，所述第一层作为基底层；

将第二层形成在所述第一层上，其中，所述第二层包括银，所述第二层作为作为红外线反射层；

将第三层形成在所述第二层上，其中，所述第三层包括镍、铌、钛、和氧，所述第三层上所述氧的含量在10到30％之间，所述第三层作为阻挡层；

将第四层形成在所述第三层上，其中，所述第四层包括锌、锡和氧，所述第四层作为隔离层；

将第五层形成在所述第四层上，其中，所述第五层包括银，所述第五层作为作为红外线反射层；

将第六层形成在所述第五层上，其中，所述第六层包括镍、铌、钛、和氧，所述第六层作为阻挡层；

将第七层形成在所述第六层上，其中，所述第七层包括锌、锡和氧，所述第七层作为保护层。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述第一层、所述第四层或所述第七层包括Zn₂SnO_x。

6.如权利要求4所述的方法，其中，所述第一层、所述第四层和所述第七层包括Zn₂SnO_x。

7.如权利要求4所述的方法，其中，所述第一层或所述第四层的所述厚度在10到40毫微米之间。

8.如权利要求4所述的方法，还包括：

第八层，在所述第一和第二层之间，其中，所述第八层包括氧化锌，所述第八层作为所述第二层的晶核层；和

第九层，在所述第五和第六层之间，其中，所述第九层包括氧化锌，所述第九层作为所述第五层的晶核层。

9.如权利要求4所述的方法，其中，所述第八层和所述第九层的所述厚度在3到10毫微米之间。

10.如权利要求4所述的方法，其中，所述第三层或所述第六层的所述厚度在1到5毫微米之间。

11.如权利要求4所述的方法，其中，所述第四层的所述厚度在50到100毫微米之间。

12.一种涂层物品，其包括：

第一层，配置在基底上，其中，所述第一层包括非晶层，所述第一层包括锌、锡和氧，所述第一层作为基底层；

第二层，配置在所述第一层上，其中，所述第二层包括银，所述第二层作为作为红外线反射层；

第三层，配置在所述第二层上，其中，所述第三层包括镍、铌、钛、和氧，所述第三层上所述氧的含量在10到30％之间，所述第三层作为阻挡层；

第四层，配置在所述第三层上，其中，所述第四层包括锌、锡和氧，所述第四层作为隔离层；

第五层，配置在所述第四层上，其中，所述第五层包括银，所述第五层作为作为红外线反射层；

第六层，在所述第五层上，其中，所述第六层包括镍、铌、钛、和氧，所述第六层作为阻挡层；

第七层，配置在所述第六层上，其中，所述第七层包括锌、锡和氧，所述第七层作为保护层。

13.如权利要求12所述的涂层物品，其中，所述第一层、所述第四层或所述第七层包括Zn₂SnO_x。

14.如权利要求12所述的涂层物品，其中，所述第一层、所述第四层和所述第七层包括Zn₂SnO_x。