[发明专利]在玻璃上低温沉淀石墨烯的方法以及相关的制品/装置

权利要求书

1.一种制备涂层制品的方法，所述涂层制品包括位于基板上的含石墨烯的薄膜，所述方法包括以下步骤：

在所述基板上配置含金属的催化剂层；

将所述基板和其上的所述含金属的催化剂层加热；

在一个或多个阶段中，将所述基板和其上的所述催化剂层暴露于引发应变的气体和含碳的前驱气体，并将所述基板和其上的所述催化剂层在350-600摄氏度的温度下退火处理10分钟至3个小时；

使石墨烯成型和/或形成在所述含金属的催化剂层上与其接触，以及形成在所述基板和所述含金属的催化剂层之间，以及

通过引发所述含金属的催化剂层中的残余应变，将所述含金属的催化剂层和形成在其上的所述石墨烯从底部的石墨烯和所述基板中分离，从而来制备所述涂层制品，

其中，所述催化剂层包含镍。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述催化剂层实质上由镍构成。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述催化剂层包含a-Ni:P。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述催化剂层包含c-Ni。

5.如权利要求1所述的方法，其中，第一阶段包括提供至少所述引发应变的气体来引发所述催化层中的应变，且第二阶段包括以第二流速提供至少所述引发应变的气体和以第三流速提供所述含碳的前驱气体，所述第一和第二阶段按这样的顺序被提供。

6.如权利要求5中所述的方法，其中，所述第一流速大于所述第二和第三流速，且所述第二流速小于所述第三流速。

7.如权利要求5所述的方法，其中，在所述第一阶段中，没有或几乎没有提供含碳的前驱气体。

8.如权利要求5所述的方法，其中，在所述第二阶段之后提供第三阶段，所述第三阶段几乎没有提供引发应变的气体和/或含碳的前驱气体，所述温度在所述第三阶段期间被明显降低。

9.如权利要求5-8中任一项所述的方法，其中，第一阶段包括以第一流速提供至少氦气体，且第二阶段包括以第二流速提供至少氦气体和以第三流速提供乙炔气体，所述第一和第二阶段按这样的顺序被提供。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述第一流速大于所述第二和第三流速，且所述第二流速小于所述第三流速。

11.如权利要求9所述的方法，其中，在所述第一阶段中，没有或几乎没有提供乙炔。

12.如权利要求9所述的方法，其中，在所述第二阶段之后提供第三阶段，所述第三阶段几乎没有提供氦和/或乙炔。

13.如权利要求12所述的方法，其中，所述温度在所述第三阶段过程中被明显降低。

14.如权利要求1所述的方法，其中，所述含金属的催化剂层具有与玻璃的光滑度相同的光滑度。

15.如权利要求1所述的方法，其中，所述含金属的催化剂层具有至少与其底部基板的光滑度相同的光滑度。

16.如权利要求15所述的方法，其中，所述基板为玻璃基板。

17.如权利要求1所述的方法，其中，所述退火处理是在氦的存在下被执行，来引发所述含金属的催化剂层中的应变。

18.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

冷却和/或置留所述基板和其上的所述石墨烯；以及

将涂有粘合剂的材料施加至形成在所述含金属的催化剂层上的所述石墨烯。