[发明专利]固体摄像器件、电子装置、镜头控制方法和摄像模块

说明书

本发明提供了一种固体摄像器件，其包括像素区域，所述像素区域包括以二维矩阵图案布置着的多个像素。所述多个像素之中的一些像素被构造为相位差检测像素，所述相位差检测像素包括光电转换部和遮光膜，所述光电转换部被设置于半导体基板上，所述遮光膜被设置于所述光电转换部的一部分的上方。特别地，所述相位差检测像素的所述遮光膜的位置随着所述相位差检测像素的位置不同而有所不同。例如，位于所述像素区域的外围部处的所述相位差检测像素的所述遮光膜的位置不同于位于所述像素区域的中心部处的所述相位差检测像素的所述遮光膜的位置。

技术领域

本技术涉及能够防止自动聚焦(AF：auto focus)的精度降低的固体摄像器件、电子装置、镜头控制方法和摄像模块。

相关申请的交叉参考

本申请要求2013年6月4日提交的日本优先权专利申请JP 2013-117688的优先权权益，因此将该日本优先权专利申请的全部内容以引用的方式并入本文中。

背景技术

近年来，已经开发出这样的摄像装置：其通过在摄像器件中设置有对光电转换部的一部分进行了遮光的相位差检测像素来执行相位差检测，由此执行自动聚焦(AF)(例如，参照专利文献PTL 1)。

引用文献列表

专利文献

PTL 1：日本未经审查的专利申请公开第2010-160313号

发明内容

本发明要解决的技术问题

诸如在形成各像素中的遮光膜和片上透镜(on-chip lens)时的光刻工艺中的未对准或在使摄像器件模块化时摄像镜头中的未对准等制造差异会导致相位差检测精度的降低。因此，相位差检测精度的降低会影响自动聚焦(AF)的精度。

根据本技术，期望的是，即使当存在着制造差异时，也能至少保持 AF的精度。

解决技术问题所采取的技术方案

根据本技术的一个实施例，提供了一种固体摄像器件，其包括：多个像素，所述多个像素包括用于通过相位差检测来执行自动聚焦(AF) 的相位差检测像素。各所述相位差检测像素包括片上透镜和光电转换部，所述光电转换部被形成于比所述片上透镜低的层上。在所述相位差检测像素之中的多个预定的相位差检测像素中，所述片上透镜被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的布置对应的出射光瞳校正量的偏差量。

所述相位差检测像素还可以包括遮光膜，所述遮光膜对所述光电转换部的一部分遮光。在所述预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜可以被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的所述布置对应的所述出射光瞳校正量的偏差量。

所述预定的相位差检测像素可以被布置得彼此靠近。在所述预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜可以受到基于如下校正量的出射光瞳校正：该校正量不同于与所述预定的相位差检测像素的所述布置对应的所述出射光瞳校正量。

所述预定的相位差检测像素可以被布置得彼此远离。在所述预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜可以没有受到基于校正量的出射光瞳校正。

所述多个像素包括用于生成图像的摄像像素，所述预定的相位差检测像素可以被设置于设置有所述摄像像素的图像输出区域的外侧。

所述多个像素包括用于生成图像的摄像像素，所述预定的相位差检测像素可以被设置于设置有所述摄像像素的图像输出区域的内侧。

毗邻于所述预定的相位差检测像素的像素可以具有比常规尺寸的片上透镜大的片上透镜。

毗邻于所述预定的相位差检测像素的像素可以具有比常规尺寸的片上透镜小的片上透镜。