[发明专利]用于测定洗提液以得到锝和钼含量的系统和方法

权利要求书

1.一种用于测定洗提液以得到锝-99m和和钼-99含量的系统，该系统包括：

内电离室，其包括井，该井被构造成接纳洗提液；

外电离室，其与内电离室同中心；

衰减材料，其定位在内、外电离室之间；

计算装置，其被构造成：

基于在内电离室中测量的第一电流确定洗提液的锝-99m含量；和

基于在外电离室中测量的第二电流确定洗提液的钼-99含量。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，外电离室是高压氙气室。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，衰减材料由钨和铅中的至少一者制成。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，该系统被构造成同时确定洗提液的锝-99m含量和钼-99含量。

5.根据权利要求1所述的系统，进一步包括：

第一电流测量装置，其可通信地联接到计算装置并且被构造成测量内电离室中的第一电流；和

第二电流测量装置，其联接到计算装置并且被构造成测量外电离室中的第二电流。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，第一和第二电流测量装置是源测量单元(SMU)。

7.根据权利要求1所述的系统，其中，计算装置进一步被构造成：

计算所确定的钼-99含量中可归因于来自锝-99m衰减的322.41KeV能量的部分；和

从所确定的钼-99含量减去所计算的部分以产生校正的钼-99含量。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，内、外电离室是环状的。

9.一种用于测定洗提液以得到锝-99m和钼-99含量的方法，该方法包括：

将洗提液放置在内电离室的井中；

测量内电离室中的第一电流；

测量外电离室中的第二电流，其中，外电离室与内电离室同中心并且通过衰减材料与内电离室分离；

使用计算装置根据第一测量电流确定洗提液的锝-99m含量；和

使用计算装置根据至少第二测量电流确定洗提液的钼-99含量。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，测量外电离室中的第二电流包括测量高压氙气室中的第二电流。

11.根据权利要求9所述的方法，进一步包括使用计算装置计算洗提液的锝-99m与钼-99的比率。

12.根据权利要求9所述的方法，其中，洗提液的锝-99m含量和钼-99含量是同时确定的。

13.根据权利要求9所述的方法，其中，测量第一电流包括使用第一源测量单元测量第一电流，并且其中，测量第二电流包括使用第二源测量单元测量第二电流。

14.根据权利要求9所述的方法，还包括：

使用计算装置计算所确定的钼-99含量中可归因于来自锝-99m衰减的322.41KeV能量的部分；和

计算装置从所确定的钼-99含量减去所计算的部分以产生校正的钼-99含量。

15.一种用于检测洗提液中多种放射性同位素的辐射检测装置，该辐射检测装置包括：

内电离室，其包括接纳洗提液的井，其中，响应于洗提液中存在第一放射性同位素，在内电离室中产生第一电流；

外电离室，其与内电离室同中心，其中，响应于洗提液中存在第二放射性同位素，在外电离室中产生第二电流；和

衰减材料，其定位在内、外电离室之间。

16.根据权利要求15所述的辐射检测装置，其中，第一放射性同位素是锝-99m，而第二放射性同位素是钼-99。

17.根据权利要求15所述的辐射检测装置，其中，外电离室是高压氙气室。

18.根据权利要求15所述的辐射检测装置，其中，衰减材料由钨和铅中的至少一者制成。

19.根据权利要求15所述的辐射检测装置，其中，衰减材料具有近似0.25英寸的厚度。

20.根据权利要求15所述的辐射检测装置，其中，内、外电离室为环状。